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缺陷对二维材料生长和光电性质影响与调控的理论研究

摘要第5-7页
Abstract第7-8页
第一章 绪论第11-31页
    1.1 石墨烯的基本性质和应用第11-13页
    1.2 过渡金属硫族化合物的性质和应用第13-17页
    1.3 二维材料中的缺陷研究第17-19页
    1.4 本论文的主要研究内容第19-20页
    1.5 参考文献第20-31页
第二章 理论背景第31-43页
    2.1 分子力学方法第31-34页
        2.1.1 分子力学基本概念第31-32页
        2.1.2 力场的形式第32-33页
        2.1.3 能量极小化算法第33-34页
    2.2 密度泛函理论第34-39页
        2.2.1 Thomas-Fermi-Dirac模型第35页
        2.2.2 Konh-Sham方程第35-36页
        2.2.3 交换关联泛函第36-37页
        2.2.4 赝势方法第37-39页
    2.3 参考文献第39-43页
第三章 确定应变表面结合能分布的多尺度方法第43-55页
    3.1 引言第43-44页
    3.2 多尺度方法和计算细节第44-46页
    3.3 结果与讨论第46-51页
    3.4 本章小结第51页
    3.5 参考文献第51-55页
第四章 硫空位缺陷对MoS_2电子和光学性质的影响与调控第55-73页
    4.1 引言第55-56页
    4.2 计算模型和方法第56-57页
    4.3 结果与讨论第57-68页
        4.3.1 空位缺陷对电子和输运性质的影响第57-63页
        4.3.2 空位缺陷对光学性质的影响第63-68页
    4.4 本章小结第68页
    4.5 参考文献第68-73页
第五章 有转角的石墨烯/二硫化钼异质节和双层二硫化钼的电子结构第73-87页
    5.1 引言第73-74页
    5.2 计算模型和方法第74-75页
    5.3 结果与讨论第75-82页
        5.3.1 有转角的石墨烯/二硫化钼异质节第75-79页
        5.3.2 扭转的双层二硫化钼第79-82页
    5.4 本章小结第82页
    5.5 参考文献第82-87页
第六章 论文总结与展望第87-89页
致谢第89-91页
攻读博士期间已发表和待发表论文第91页

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