熔融沉积扫描路径规划及工艺参数优化研究
摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5页 |
注释表 | 第11-12页 |
缩略词 | 第12-13页 |
第一章 绪论 | 第13-18页 |
1.1 快速成型技术概论 | 第13-14页 |
1.2 熔融沉积成型技术 | 第14-17页 |
1.2.1 熔融沉积成型工艺原理 | 第14-15页 |
1.2.2 熔融沉积成型研究现状 | 第15-16页 |
1.2.3 熔融沉积成型技术难点 | 第16-17页 |
1.3 课题主要研究内容 | 第17-18页 |
1.3.1 研究目标 | 第17页 |
1.3.2 研究内容 | 第17-18页 |
第二章 熔融沉积成型误差分析 | 第18-28页 |
2.1 FDM成型误差来源 | 第18-20页 |
2.2 出丝膨胀模型 | 第20-22页 |
2.2.1 出丝情况分析 | 第20-21页 |
2.2.2 出丝试验 | 第21-22页 |
2.3 FDM熔丝截面模型 | 第22-25页 |
2.3.1 熔丝截面模型对扫描精度的影响 | 第22-23页 |
2.3.2 FDM出丝工艺分析 | 第23页 |
2.3.3 熔丝截面模型的建立 | 第23-25页 |
2.4 翘曲变形分析 | 第25-27页 |
2.4.1 翘曲变形原理分析 | 第26页 |
2.4.2 翘曲变形过程分析 | 第26页 |
2.4.3 翘曲变形改善方案 | 第26-27页 |
2.5 本章小结 | 第27-28页 |
第三章 熔融沉积成型机床控制系统设计 | 第28-37页 |
3.1 控制方案设计 | 第28-29页 |
3.1.1 通用控制方案 | 第28页 |
3.1.2 运动控制器方案 | 第28-29页 |
3.2 控制系统硬件设计 | 第29-31页 |
3.2.1 控制系统硬件架构 | 第29-30页 |
3.2.2 处理器模块 | 第30页 |
3.2.3 电压监测模块 | 第30-31页 |
3.3 控制系统软件设计 | 第31-34页 |
3.3.1 系统功能性软件 | 第31-34页 |
3.3.2 插补运算 | 第34页 |
3.4 实时性处理 | 第34-36页 |
3.4.1 中断优先级规划 | 第35-36页 |
3.4.2 中断服务程序设计 | 第36页 |
3.5 本章小结 | 第36-37页 |
第四章 熔融沉积成型复合扫描算法设计 | 第37-52页 |
4.1 基本路径分析 | 第37-40页 |
4.1.1 基本路径介绍及其优缺点分析 | 第37-40页 |
4.1.2 路径复合方式 | 第40页 |
4.2 截面轮廓部位的轮廓偏置扫描算法设计 | 第40-43页 |
4.2.1 轮廓偏置扫描算法流程设计 | 第40-41页 |
4.2.2 轮廓顶点求解 | 第41-43页 |
4.2.3 偏置方向求解 | 第43页 |
4.3 截面内部的平行直线扫描算法设计 | 第43-46页 |
4.3.1 平行直线扫描算法流程设计 | 第43-44页 |
4.3.2 间距计算 | 第44-45页 |
4.3.3 旋转变换转角计算 | 第45-46页 |
4.3.4 平行路径生成 | 第46页 |
4.4 轮廓偏置路径与平行直线路径复合处理 | 第46-47页 |
4.5 针对“空行程”的路径优化处理 | 第47-51页 |
4.5.1 多边形区域排序算法 | 第47-48页 |
4.5.2 区域起点选择算法 | 第48-49页 |
4.5.3 层间空行程路径调整 | 第49-51页 |
4.6 复合算法测试 | 第51页 |
4.7 本章小结 | 第51-52页 |
第五章 熔融沉积成型工艺参数优化 | 第52-61页 |
5.1 试验设计 | 第52-54页 |
5.1.1 试验环境 | 第52页 |
5.1.2 试验方法 | 第52-53页 |
5.1.3 试验设计 | 第53-54页 |
5.2 试验分析 | 第54-58页 |
5.2.1 试验数据处理 | 第54-57页 |
5.2.2 试验数据分析 | 第57-58页 |
5.3 工艺参数优化 | 第58-59页 |
5.3.1 工艺参数综合分析 | 第58-59页 |
5.3.2 工艺参数对翘曲变形的影响 | 第59页 |
5.3.3 工艺参数优化结果 | 第59页 |
5.4 本章小结 | 第59-61页 |
第六章 总结和展望 | 第61-63页 |
6.1 总结 | 第61-62页 |
6.2 展望 | 第62-63页 |
参考文献 | 第63-67页 |
致谢 | 第67-68页 |
在校期间的研究成果及发表的学术论文 | 第68页 |