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质子辐照对InP/InGaAs HBTs电学特性的影响

摘要第5-6页
ABSTRCAT第6-7页
符号对照表第11-13页
缩略语对照表第13-17页
第一章 绪论第17-23页
    1.1 本文研究意义第17-19页
        1.1.1 研究In P/In Ga As HBTs的意义第17-18页
        1.1.2 研究辐照的必要性第18-19页
    1.2 国内外研究现状及存在问题第19-21页
    1.3 本文结构第21-23页
第二章 辐照基本概念与异质结双极型晶体管(HBTs)物理机制第23-43页
    2.1 空间辐照环境第23-25页
    2.2 辐照碰撞机制第25-29页
        2.2.1 卢瑟福散射第26页
        2.2.2 光子相互作用第26-28页
        2.2.3 中子相互作用第28-29页
    2.3 辐照损伤机制第29-33页
        2.3.1 位移损伤第29-31页
        2.3.2 非电离能量损失(NIEL)第31-32页
        2.3.3 电离损伤第32-33页
    2.4 辐照分类第33-34页
    2.5 辐照对HBTs器件的损伤第34页
    2.6 异质结双极型晶体管(HBTs)物理机制第34-41页
        2.6.1.异质结第35-36页
        2.6.2 器件结构第36-37页
        2.6.3.工作模式第37-39页
        2.6.4.Gummel特性第39-40页
        2.6.5.HBTs器件的应用第40-41页
    2.7 本章小结第41-43页
第三章 In P/In Ga As异质PN结结构的质子辐照研究第43-55页
    3.1 In P/In Ga As异质PN结器件结构及基本参数第43-44页
    3.2 In P/In Ga As异质PN结结构的质子辐照实验第44-45页
    3.3 实验结果及分析第45-51页
        3.3.1 In P/In Ga As异质PN结结构的电流-电压(I-V)特性第45-47页
        3.3.2 In P/In Ga As异质PN结结构的电容-电压(C-V)特性第47-51页
    3.4 界面态密度的计算第51-52页
    3.5 本章小结第52-55页
第四章 In P/In Ga As HBTs的质子辐照研究第55-75页
    4.1 In P/In Ga As HBTs的质子辐照研究第55-61页
        4.1.1 实验设计第55-56页
        4.1.2 测试结果及分析第56-61页
    4.2 非电离能量损失NIEL的计算第61-68页
        4.2.1 基于解析方法计算NIEL第61-66页
        4.2.2 基于SRIM仿真计算NIEL第66-68页
        4.2.3 NIEL计算结果的分析第68页
    4.3 SRIM仿真第68-72页
        4.3.1 不同能量的仿真第68-69页
        4.3.2 不同剂量的仿真第69-72页
    4.4 本章小结第72-75页
第五章 总结与展望第75-77页
    5.1 总结第75-76页
    5.2 展望第76-77页
参考文献第77-81页
致谢第81-83页
作者简介第83-84页

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