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玉米叶片的光学特性获取与分析

致谢第7-9页
摘要第9-11页
Abstract第11-13页
第1章 绪论第20-31页
    1.1 研究背景和意义第20-21页
    1.2 国内外研究进展第21-28页
        1.2.1 光学特性获取装置第21-25页
        1.2.2 叶片光学特性检测方法第25-26页
        1.2.3 叶片光学特性的模型简介第26-28页
        1.2.4 国内外研究存在的主要问题第28页
    1.3 主要研究内容第28-30页
    1.4 技术路线图第30页
    1.5 本章小结第30-31页
第2章 材料与方法第31-41页
    2.1 引言第31页
    2.2 玉米叶片光学特性采集设备第31-36页
        2.2.1 基本概念第32-33页
        2.2.2 系统操作第33页
        2.2.3 光源第33-34页
        2.2.4 光谱仪探测器第34-35页
        2.2.5 光纤探测器第35页
        2.2.6 试验样本第35-36页
    2.3 数据处理软件第36-38页
        2.3.1 1stOpt软件第36-37页
        2.3.2 Matlab软件第37-38页
        2.3.3 SPSS软件第38页
    2.4 试验材料与设计第38-40页
        2.4.1 试验对象选取第38-39页
        2.4.2 玉米样本种植第39页
        2.4.3 玉米样本培育第39-40页
    2.5 本章小结第40-41页
第3章 背景对玉米叶片光学特性的影响分析第41-60页
    3.1 引言第41-42页
    3.2 理论与方法第42-46页
        3.2.1 PLATE模型第42页
        3.2.2 BPLT模型第42-44页
        3.2.3 叶绿素植被指数第44页
        3.2.4 评价标准第44-46页
    3.3 试验材料与仪器第46-47页
        3.3.1 叶片样本的准备第46页
        3.3.2 叶绿素测定第46-47页
    3.4 BPLT模型的模拟第47-55页
        3.4.1 不同光源方位角BPLT模型参数的比较第47-49页
        3.4.2 BPLT模型的背景扣除比较第49-51页
        3.4.3 玉米叶片不同水平背景扣除的分析第51-53页
        3.4.4 不同背景输入的模型扣除效果第53-55页
    3.5 BPLT模型的验证第55-58页
        3.5.1 背景单因素方差分析第55-57页
        3.5.2 多因素方差分析第57-58页
    3.6 本章小结第58-60页
第4章 Spectralon板的校正第60-71页
    4.1 引言第60-61页
    4.2 校正理论第61-63页
    4.3 试验材料与方法第63-64页
        4.3.1 试验材料第63页
        4.3.2 操作步骤第63-64页
    4.4 结果与讨论第64-69页
        4.4.1 S板最佳天顶角确定第64-65页
        4.4.2 S板的通用模型第65-69页
    4.5 本章小结第69-71页
第5章 氮素胁迫下玉米叶片的模拟第71-84页
    5.1 引言第71页
    5.2 试验材料与方法第71-75页
        5.2.1 氮素胁迫下玉米生长的前期监测第72-74页
        5.2.2 玉米叶片BRDF光学特性处理平台第74-75页
    5.3 氮素胁迫下玉米叶片的模拟分析第75-82页
        5.3.1 不同波段下玉米叶片双向反射分布第76-79页
        5.3.2 不同氮素胁迫玉米叶片双向反射分布第79-81页
        5.3.3 玉米叶片不同位置处双向反射特性第81-82页
    5.4 本章小结第82-84页
第6章 结论与展望第84-87页
    6.1 结论第84-85页
    6.2 主要创新点第85-86页
    6.3 展望第86-87页
参考文献第87-91页
作者简历第91页

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