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低维Bi2Se3材料的气相输运生长及其在DSSC对电极上的应用

摘要第3-5页
Abstract第5-7页
第一章 绪论第10-39页
    1.1 引言第10-11页
    1.2 二维材料概述第11-19页
        1.2.1 二维材料简介第11-13页
        1.2.2 二维材料的性质及应用第13-14页
        1.2.3 二维材料的常用制备方法第14-19页
    1.3 拓扑绝缘体概述第19-26页
        1.3.1 拓扑绝缘体简介第19-21页
        1.3.2 二维拓扑绝缘体第21-22页
        1.3.3 三维拓扑绝缘体第22-25页
        1.3.4 三维拓扑绝缘体的性质及应用前景第25-26页
    1.4 Bi_2Se_3概述第26-31页
        1.4.1 Bi_2Se_3材料的基本性质第26-27页
        1.4.2 Bi_2Se_3纳米结构的研究现状及进展第27-31页
    1.5 本论文的选题依据和研究内容第31-33页
    参考文献第33-39页
第二章 气相输运制备低维Bi_2Se_3材料及其生长机制研究第39-64页
    2.1 引言第40-44页
        2.1.1 气-固生长机制(vapor-solid,VS)第40-42页
        2.1.2 气-液-固生长机制(vapor-liquid-solid,VLS)第42-44页
    2.2 VS模式制备低维Bi_2Se_3纳米结构及表征第44-53页
        2.2.1 VS模式制备低维Bi_2Se_3纳米结构及形貌结构表征第44-49页
        2.2.2 少层Bi_2Se_3纳米片的制备及表征第49-53页
    2.3 VLS模式制备低维Bi_2Se_3纳米结构及表征第53-61页
        2.3.1 VLS模式制备低维Bi_2Se_3纳米结构及形貌结构表征第53-57页
        2.3.2 VLS模式制备低维Bi_2Se_3纳米结构的生长机理研究第57-61页
    2.4 本章小结第61-62页
    参考文献第62-64页
第三章 “两步法”制备大尺寸Bi_2Se_3片层结构与性质研究第64-77页
    3.1 引言第64-66页
    3.2 “两步法”制备桥状Bi_2Se_3纳米结构第66-70页
        3.2.1 桥状Bi_2Se_3纳米结构的制备第66-67页
        3.2.2 桥状Bi_2Se_3纳米结构的形貌和结构表征第67-70页
    3.3 “两步法”制备桥状Bi_2Se_3纳米结构的生长机理研究第70-74页
        3.3.1 二次生长过程的原位观测和分析第70-73页
        3.3.2 桥状Bi_2Se_3纳米结构的生长模型第73-74页
    3.4 本章小结第74-75页
    参考文献第75-77页
第四章 Bi_2Se_3纳米片作为对电极在DSSC上的应用第77-96页
    4.1 染料敏化太阳能电池的结构和工作原理第78-80页
        4.1.1 DSSC的结构第78页
        4.1.2 DSSC的工作原理第78-79页
        4.1.3 对电极第79-80页
    4.2 实验部分第80-82页
        4.2.1 导电衬底第80页
        4.2.2 电解液的配制第80页
        4.2.3 Pt对电极的制备第80页
        4.2.4 Bi_2Se_3对电极的制备第80-81页
        4.2.5 TiO_2光阳极的制备第81-82页
    4.3 Bi_2Se_3对电极的制备和电化学性质研究第82-92页
        4.3.1 对电极的结构和形貌表征第82-85页
        4.3.2 Bi_2Se_3对电极的电化学性质测试第85-90页
        4.3.3 对电极稳定性测试及其性能研究第90-91页
        4.3.4 Bi_2Se_3对电极对DSSC光电转换效率的影响研究第91-92页
    4.4 本章小结第92-94页
    参考文献第94-96页
第五章 结论第96-98页
致谢第98-99页
在学期间公开发表论文和参加学术会议情况第99页

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