| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-14页 |
| 1.1 引言 | 第9页 |
| 1.2 光纤麦克风传感系统概述 | 第9-10页 |
| 1.3 光纤麦克风的关键技术 | 第10-11页 |
| 1.4 本文的主要研究内容和创新点 | 第11-14页 |
| 第二章 基于铝-聚酰亚胺薄膜的低相干光纤麦克风系统 | 第14-43页 |
| 2.1 光学振动薄膜 | 第14-21页 |
| 2.1.1 薄膜理论研究 | 第15-17页 |
| 2.1.2 薄膜材料特性研究 | 第17-18页 |
| 2.1.3 纳米银膜的制备和特性研究 | 第18-20页 |
| 2.1.4 低密度聚乙烯薄膜的制备与特性研究 | 第20-21页 |
| 2.2 光学振动薄膜的制备工艺 | 第21-29页 |
| 2.2.1 MEMS刻蚀工艺 | 第21-22页 |
| 2.2.2 等离子体干法刻蚀 | 第22-24页 |
| 2.2.3 基于铝-聚酰亚胺复合薄膜光纤传感探头的工艺制备 | 第24-29页 |
| 2.3 基于铝-聚酰亚胺薄膜探头的低相干光纤微分干涉麦克风系统 | 第29-42页 |
| 2.3.1 低相干干涉原理 | 第29-31页 |
| 2.3.2 低相干光纤微分干涉系统的基本原理 | 第31-33页 |
| 2.3.3 低相干光纤微分干涉测量系统 | 第33-35页 |
| 2.3.4 基于3×3光纤耦合器的三路探测无源解调方法 | 第35-37页 |
| 2.3.5 基于铝-聚酰亚胺薄膜探头的低相干微分干涉光纤麦克风系统 | 第37-42页 |
| 2.4 本章小结 | 第42-43页 |
| 第三章 基于低相干光纤麦克风的全光纤光声光谱系统研究 | 第43-56页 |
| 3.1 引言 | 第43页 |
| 3.2 光声光谱气体检测技术概述 | 第43-46页 |
| 3.2.1 光声光谱气体检测技术研究背景 | 第43-44页 |
| 3.2.2 光声光谱技术国内外研究现状 | 第44-45页 |
| 3.2.3 基于光纤干涉解调系统的光声光谱测量系统概述 | 第45-46页 |
| 3.3 基于低相干光纤微分干涉的全光纤光声光谱测量系统 | 第46-55页 |
| 3.3.1 开放式微腔光声池模块的研究 | 第47-54页 |
| 3.3.2 低相干干涉测量系统的可行性研究 | 第54-55页 |
| 3.4 本章小结 | 第55-56页 |
| 第四章 基于低相干光纤麦克风系统的气体泄漏检测 | 第56-63页 |
| 4.1 气体检测技术概述 | 第56页 |
| 4.2 气体泄漏声场理论分析 | 第56-57页 |
| 4.3 气体泄漏声场强度的主要影响因子 | 第57-59页 |
| 4.4 基于低相干微分干涉光纤麦克风的气体泄漏实验 | 第59-61页 |
| 4.5 本章小结 | 第61-63页 |
| 第五章 全文的总结与展望 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第70页 |
