| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-25页 |
| 1.1 柔性磁电子学 | 第9-12页 |
| 1.1.1 柔性磁性薄膜 | 第9-10页 |
| 1.1.2 柔性磁电子器件 | 第10-12页 |
| 1.2 磁畴结构 | 第12-14页 |
| 1.3 磁各向异性 | 第14-16页 |
| 1.3.1 磁各向异性的起源 | 第14页 |
| 1.3.2 磁各向异性的分类 | 第14-16页 |
| 1.4 高频磁性 | 第16-19页 |
| 1.5 薄膜的制备与性能表征 | 第19-24页 |
| 1.5.1 磁控溅射 | 第19-20页 |
| 1.5.2 扫描探针显微镜 | 第20-21页 |
| 1.5.3 振动样品磁强计 | 第21-22页 |
| 1.5.4 铁磁共振 | 第22-23页 |
| 1.5.5 矢量网络分析仪 | 第23-24页 |
| 1.6 本论文的意义及主要研究内容 | 第24-25页 |
| 第2章 制备工艺对多晶NiFe薄膜条纹磁畴结构与磁各向异性的影响 | 第25-35页 |
| 2.1 引言 | 第25-26页 |
| 2.2 NiFe磁性薄膜的制备 | 第26页 |
| 2.3 制备工艺对NiFe薄膜条纹磁畴与磁各向异性的影响 | 第26-33页 |
| 2.3.1 NiFe薄膜出现条纹磁畴结构的临界厚度 | 第26-27页 |
| 2.3.2 制备工艺对NiFe薄膜磁畴的影响 | 第27-29页 |
| 2.3.3 制备工艺对NiFe薄膜磁各向异性的影响 | 第29-33页 |
| 2.4 本章小结 | 第33-35页 |
| 第3章 倾斜溅射对非晶CoFeB薄膜的条纹磁畴与磁各向异性的影响 | 第35-43页 |
| 3.1 引言 | 第35-36页 |
| 3.2 CoFeB磁性薄膜的制备 | 第36-37页 |
| 3.3 倾斜溅射对CoFeB薄膜条纹磁畴与磁各向异性的影响 | 第37-41页 |
| 3.3.1 倾斜溅射角度对CoFeB磁性薄膜磁畴的影响 | 第37页 |
| 3.3.2 倾斜溅射角度对CoFeB磁性薄膜磁各向异性的影响 | 第37-40页 |
| 3.3.3 薄膜厚度对CoFeB磁性薄膜磁畴的影响 | 第40-41页 |
| 3.4 本章小结 | 第41-43页 |
| 第4章 倾斜溅射制备柔性FeCoTa薄膜的静态与动态磁性研究 | 第43-52页 |
| 4.1 引言 | 第43-44页 |
| 4.2 柔性褶皱结构FeCoTa磁性薄膜的制备 | 第44-45页 |
| 4.3 衬底预应变及倾斜溅射调控FeCoTa薄膜静态与动态磁性能 | 第45-51页 |
| 4.3.1 衬底预应变及倾斜溅射调控FeCoTa薄膜的表面形貌 | 第45-47页 |
| 4.3.2 衬底预应变及倾斜溅射调控FeCoTa薄膜的静态磁性 | 第47-49页 |
| 4.3.3 衬底预应变及倾斜溅射调控FeCoTa薄膜的动态磁性 | 第49-51页 |
| 4.4 本章小结 | 第51-52页 |
| 第5章 总结和展望 | 第52-54页 |
| 5.1 论文总结 | 第52-53页 |
| 5.2 工作展望 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第60页 |
