| 致谢 | 第6-7页 |
| 摘要 | 第7-9页 |
| Abstract | 第9-10页 |
| 1 引言 | 第13-32页 |
| 1.1 薄膜研究现状 | 第13-21页 |
| 1.1.1 薄膜制备方法 | 第13-17页 |
| 1.1.2 影响薄膜生长特性的因素 | 第17-19页 |
| 1.1.3 薄膜的物理特性 | 第19-21页 |
| 1.2 液体基底表面金属薄膜的研究现状 | 第21-30页 |
| 1.2.1 硅油基底表面的金属薄膜 | 第21-26页 |
| 1.2.2 离子液体表面的金属薄膜 | 第26-30页 |
| 1.3 本文的主要研究内容及意义 | 第30-32页 |
| 2 实验方法 | 第32-35页 |
| 2.1 铁薄膜样品的制备 | 第32-34页 |
| 2.2 铁薄膜样品的表征和测试 | 第34-35页 |
| 3. 实验结果和分析 | 第35-49页 |
| 3.1 沉积速率对生长在硅油基底表面铁薄膜的影响 | 第36-42页 |
| 3.1.1 微结构特性 | 第36-39页 |
| 3.1.2 光学特性 | 第39-42页 |
| 3.2 基底温度对生长在硅油基底表面铁薄膜的影响 | 第42-49页 |
| 3.2.1 微观结构特性 | 第42-46页 |
| 3.2.2 光学特性 | 第46-49页 |
| 4. 结论与展望 | 第49-52页 |
| 参考文献 | 第52-57页 |
| 附录 | 第57-60页 |