摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第10-20页 |
1.1 Sr_2TiO_4的晶体结构和特性 | 第10-13页 |
1.1.1 Sr_2TiO_4的晶体结构 | 第10-11页 |
1.1.2 Sr_2TiO_4材料的特性 | 第11-13页 |
1.2 Sr_2TiO_4的应用前景和研究现状 | 第13-14页 |
1.2.1 Sr_2TiO_4的应用前景 | 第13页 |
1.2.2 Sr_2TiO_4的国内外研究现状 | 第13-14页 |
1.3 Sr_2TiO_4材料的常用制备方法 | 第14-18页 |
1.3.1 固相反应法制备Sr_2TiO_4粉体 | 第14-15页 |
1.3.2 分子束外延制备Sr_2TiO_4薄膜 | 第15-16页 |
1.3.3 脉冲激光沉积制备Sr_2TiO_4薄膜 | 第16-18页 |
1.4 本论文的主要工作 | 第18-20页 |
第二章 实验方法与测试表征 | 第20-32页 |
2.1 溶胶-凝胶法 | 第20-24页 |
2.1.1 溶胶-凝胶法的原理及特点 | 第20-21页 |
2.1.2 实验原料及设备 | 第21-22页 |
2.1.3 自主研发匀胶机介绍 | 第22-23页 |
2.1.4 工艺流程 | 第23-24页 |
2.2 磁控溅射法 | 第24-28页 |
2.2.1 磁控溅射法的原理及特点 | 第24-25页 |
2.2.2 磁控溅射系统介绍 | 第25-26页 |
2.2.3 靶材的选取 | 第26-27页 |
2.2.4 实验流程 | 第27-28页 |
2.3 基片的选择与清洗 | 第28-29页 |
2.3.1 基片的选择 | 第28页 |
2.3.2 基片的清洗 | 第28-29页 |
2.4 样品的表征与测试 | 第29-32页 |
2.4.1 晶体结构和物相表征 | 第29-30页 |
2.4.2 形貌和成分表征 | 第30页 |
2.4.3 光学性能测试 | 第30-31页 |
2.4.4 微波介电性能测试 | 第31-32页 |
第三章 溶胶-凝胶法制备Sr_2TiO_4粉体及其光电性能研究 | 第32-56页 |
3.1 不同体系前驱液的配制 | 第32-35页 |
3.2 不同体系制备Sr_2TiO_4粉体的结构和形貌 | 第35-50页 |
3.2.1 水-冰乙酸体系 | 第35-38页 |
3.2.2 水-PVP-冰乙酸体系 | 第38-42页 |
3.2.3 水-柠檬酸-冰乙酸体系 | 第42-46页 |
3.2.4 乙二醇甲醚-冰乙酸体系 | 第46-50页 |
3.3 Sr_2TiO_4粉体的介电性能 | 第50-51页 |
3.4 稀土Pr掺杂Sr_2TiO_4粉体的光致发光性能 | 第51-55页 |
3.5 本章小结 | 第55-56页 |
第四章 溶胶-凝胶法制备Sr_2TiO_4薄膜的工艺探究及其形成机理 | 第56-70页 |
4.1 不同体系前驱液制备薄膜及其表征 | 第56-60页 |
4.2 水-PVP-冰乙酸体系制备薄膜的工艺探究 | 第60-66页 |
4.2.1 不同退火温度对薄膜结构和形貌的影响 | 第60-62页 |
4.2.2 不同膜厚对薄膜结构的影响 | 第62-64页 |
4.2.3 不同种类基片对薄膜结构的影响 | 第64-66页 |
4.3 生长机理分析 | 第66-68页 |
4.4 本章小结 | 第68-70页 |
第五章 磁控溅射法轰击Sr_2TiO_4靶材制备薄膜的工艺探究 | 第70-90页 |
5.1 影响薄膜制备的因素 | 第70-84页 |
5.1.1 Ar/O_2对薄膜成分的影响 | 第70-74页 |
5.1.2 基片温度对薄膜结晶状态的影响 | 第74-77页 |
5.1.3 气体压强对薄膜沉积速率的影响 | 第77-80页 |
5.1.4 溅射功率对薄膜沉积速率的影响 | 第80-83页 |
5.1.5 不同基片种类对薄膜结构的影响 | 第83-84页 |
5.2 薄膜厚度对元素分布的影响 | 第84-87页 |
5.3 生长机理分析 | 第87-89页 |
5.4 本章小结 | 第89-90页 |
第六章 总结与展望 | 第90-92页 |
6.1 总结 | 第90-91页 |
6.2 展望 | 第91-92页 |
参考文献 | 第92-100页 |
攻读硕士学位期间取得的科研成果 | 第100-102页 |
致谢 | 第102页 |