| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第1章 引言 | 第8-19页 |
| ·研究的背景和目的 | 第8页 |
| ·高量程加速度传感器的研究现状 | 第8-10页 |
| ·硅纳米结构巨压阻效应的研究现状 | 第10-17页 |
| ·压阻效应及巨压阻效应简介 | 第10-11页 |
| ·巨压阻效应的产生机理 | 第11-13页 |
| ·巨压阻效应的影响因素 | 第13-14页 |
| ·硅纳米结构压阻的制作方案 | 第14-16页 |
| ·巨压阻的应用 | 第16-17页 |
| ·论文的主要内容 | 第17-19页 |
| 第2章 基于巨压阻效应加速度计理论分析和结构设计 | 第19-28页 |
| ·压阻式加速度计的基本原理 | 第19-20页 |
| ·加速度计的结构设计 | 第20-24页 |
| ·加速度计结构分析 | 第20-21页 |
| ·加速度计结构参数 | 第21-22页 |
| ·新结构的优势 | 第22-24页 |
| ·结构建模与仿真 | 第24-27页 |
| ·模态分析 | 第25页 |
| ·静力分析 | 第25-26页 |
| ·谐响应分析 | 第26页 |
| ·灵敏度分析 | 第26-27页 |
| ·本章小结 | 第27-28页 |
| 第3章 关键工艺研究 | 第28-50页 |
| ·硅纳米线压阻制作工艺设计 | 第28-31页 |
| ·硅纳米压阻制作方案选择 | 第28-29页 |
| ·硅纳米线压阻制作工艺设计 | 第29-30页 |
| ·硅纳米线压阻的制作 | 第30-31页 |
| ·体硅湿法深刻蚀掩膜工艺研究 | 第31-37页 |
| ·抛光面单独铬膜作为掩膜工艺实验 | 第32-34页 |
| ·非抛光面铬膜加氧化硅作为掩膜工艺实验 | 第34-35页 |
| ·非抛光面铬膜加氮化硅作为掩膜工艺实验 | 第35-36页 |
| ·体硅掩膜工艺实验总结 | 第36-37页 |
| ·凸角补偿研究 | 第37-47页 |
| ·凸角补偿图形的设计分析 | 第37-42页 |
| ·方块形凸角补偿实验 | 第42-43页 |
| ·<110>条状凸角补偿实验 | 第43-47页 |
| ·凸角补偿实验总结 | 第47页 |
| ·金硅键合工艺研究 | 第47-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第4章 基于巨压阻效应的加速度计版图设计和工艺流水 | 第50-67页 |
| ·版图设计 | 第50-53页 |
| ·MEMS 版图设计规则 | 第50-51页 |
| ·压阻测试区版图设计 | 第51-52页 |
| ·传感器版图设计 | 第52-53页 |
| ·加速度计加工工艺流程设计 | 第53-61页 |
| ·流程设计分析 | 第53-54页 |
| ·工艺流程设计 | 第54页 |
| ·整体工艺流程卡 | 第54-61页 |
| ·加速度计工艺流水制作 | 第61-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 第5章 实验结果和讨论 | 第67-82页 |
| ·压阻系数测试 | 第67-79页 |
| ·压阻系数测试装置 | 第67-70页 |
| ·压阻系数测试实验步骤与测试结果 | 第70-77页 |
| ·压阻测试结果和分析 | 第77-79页 |
| ·湿法腐蚀后应力测试 | 第79-81页 |
| ·深槽内应力测试 | 第79页 |
| ·硅片不同位置的应力测试 | 第79-81页 |
| ·本章小结 | 第81-82页 |
| 第6章 总结 | 第82-84页 |
| ·本论文工作的主要成果 | 第82页 |
| ·论文工作的创新点 | 第82页 |
| ·课题进一步研究展望 | 第82-84页 |
| 参考文献 | 第84-88页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第88页 |