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基于电学及射线成像技术的两相流可视化研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-10页
第一章 绪论第10-30页
   ·多相流参数检测的背景、意义、现状和趋势第10-12页
   ·两相流流型及主要参数第12-18页
     ·流型第12-16页
     ·两/多相流主要参数第16-18页
   ·层析成像技术及多相流体的可视化测量第18-26页
     ·电学层析成像技术及系统的发展与现状第20-24页
     ·射线层析成像技术及系统的发展与现状第24-26页
   ·论文的主要研究内容及创新点第26-27页
   ·论文组织结构第27-30页
第二章 基于 FPGA 和 CompactPCI 总线的电阻层析成像系统第30-52页
   ·电阻层析成像技术基本原理第31-34页
   ·电阻层析成像系统结构第34-44页
     ·信号源板卡第35-40页
     ·信号预处理板卡第40-41页
     ·AD 板卡第41-43页
     ·系统操作软件第43-44页
   ·系统性能分析及成像测试实验第44-49页
     ·压控电流源 VCCS 性能测试第44-46页
     ·采集速度分析第46-47页
     ·通道一致性分析及信噪比第47-48页
     ·成像测试实验第48-49页
   ·小结第49-52页
第三章 基于电容测量原理的两相流测量方法第52-72页
   ·背景知识第52-53页
   ·电容传感器数学模型第53-56页
   ·电容传感器两相流测量的基本模型第56-62页
     ·平行电极,矩形截面第56-59页
     ·平行电极,圆形截面第59-62页
     ·表面电极,圆形截面第62页
   ·轴向步进式多段电极激励模式第62-67页
     ·激励方法第62-63页
     ·测量系统及电容测量电路第63-64页
     ·仿真结果分析第64-67页
   ·环域聚焦成像电容传感器第67-70页
     ·传感器结构第67页
     ·系统框图第67-68页
     ·仿真分析第68-70页
   ·小结第70-72页
第四章 Wire-Mesh 传感器及超快 X 射线成像传感器测量方法第72-88页
   ·Wire-Mesh 传感器第72-77页
     ·发展背景第72-73页
     ·传感器结构及测量过程第73-75页
     ·传感器数据预处理第75-77页
   ·X 射线成像背景知识第77-84页
     ·X 射线的产生第77-78页
     ·X 射线与物质的相互作用第78-79页
     ·X 射线成像的基本原理第79-82页
     ·X 射线成像扫描方式第82-84页
   ·超快 X 射线成像传感器第84-87页
     ·超快 X 射线成像传感器结构第84-86页
     ·超快 X 射线成像传感器数据预处理第86-87页
   ·小结第87-88页
第五章 超快 X 射线成像及 Wire-Mesh 传感器两相流测量数据分析第88-104页
   ·实验条件描述第88-90页
   ·实验数据处理及特征提取第90-101页
     ·截面气相含率测量第91-95页
     ·气相相关速度测量第95-97页
     ·气泡大小分布测量第97-101页
     ·超快 X 射线成像传感器成像第101页
   ·小结第101-104页
第六章 总结与建议第104-108页
   ·总结第104-105页
   ·建议与展望第105-108页
参考文献第108-124页
发表论文和参加科研情况说明第124-127页
致谢第127页

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