摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-9页 |
1 绪论 | 第9-14页 |
·研究背景 | 第9-10页 |
·细胞融合技术 | 第10-13页 |
·细胞融合技术的发展历史 | 第10-12页 |
·连续流的细胞电融合技术 | 第12页 |
·实验室前期研究进展 | 第12-13页 |
·研究目的和研究内容 | 第13-14页 |
·研究目的 | 第13页 |
·研究内容 | 第13-14页 |
2 基本理论和连续流细胞电融合芯片的整体设计 | 第14-19页 |
·数值仿真 | 第14-15页 |
·计算机仿真技术 | 第14页 |
·数值仿真的意义 | 第14-15页 |
·有限元的基本概念 | 第15-17页 |
·有限元法的基本思想和计算步骤 | 第15-16页 |
·有限元分析软件 COMSOL Multiphysics 简介 | 第16-17页 |
·连续流细胞电融合芯片的整体设计 | 第17-19页 |
·连续流细胞电融合芯片的工作原理 | 第17-18页 |
·连续流细胞电融合芯片的仿真思路及重点 | 第18-19页 |
3 连续流细胞电融合芯片内流场分布的仿真研究 | 第19-30页 |
·流场分布有限元分析的步骤 | 第19-22页 |
·建立仿真模型 | 第19页 |
·设定材料参数与边界条件 | 第19-20页 |
·划分网格 | 第20-21页 |
·求解 | 第21-22页 |
·细胞进样段流场分析 | 第22-26页 |
·微通道夹角对流场的影响 | 第22-24页 |
·流速比(V_(鞘流)/V_(样品流))对流场的影响 | 第24-25页 |
·入口长度比(L_(鞘流)/L_(样品流))对流场的影响 | 第25-26页 |
·细胞配对段流场分析 | 第26-28页 |
·入口长度比(L_(鞘流)/L_(样品流))对流场的影响 | 第26-27页 |
·交汇角对流场的影响 | 第27-28页 |
·分析讨论 | 第28-30页 |
4 连续流细胞电融合芯片内电融合区域电场仿真分析 | 第30-46页 |
·电场分布有限元分析的步骤 | 第30-31页 |
·建立仿真模型 | 第30页 |
·设定材料参数与边界条件 | 第30-31页 |
·划分网格 | 第31页 |
·求解 | 第31页 |
·对称微电极阵列 | 第31-39页 |
·电极对水平间距对电场的影响 | 第32-34页 |
·细胞存在与否对电场的影响 | 第34-36页 |
·细胞对位移对电场的影响 | 第36-39页 |
·交错微电极阵列 | 第39-44页 |
·细胞存在与否对电场的影响 | 第40-42页 |
·细胞对姿态对电场的影响 | 第42页 |
·细胞对间距对电场的影响 | 第42-44页 |
·分析讨论 | 第44-46页 |
5 总结与展望 | 第46-48页 |
·本文总结 | 第46页 |
·不足与展望 | 第46-48页 |
致谢 | 第48-49页 |
参考文献 | 第49-53页 |
附录 | 第53页 |
A. 在攻读学位期间发表的论文目录 | 第53页 |
B. 在攻读学位期间参与的科研项目 | 第53页 |