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等离子体流动控制及其在压气机中的应用研究

摘要第1-6页
Abstract第6-8页
目录第8-11页
第一章 绪论第11-26页
   ·研究背景及意义第11-13页
   ·介质阻挡放电主动控制技术的理论基础第13-17页
     ·等离子体概述第13-14页
     ·介质阻挡放电第14-17页
       ·介质阻挡放电的特性第14-15页
       ·介质阻挡放电的电压和电流特性第15页
       ·介质阻挡放电机制第15-17页
   ·国内外介质阻挡放电流动控制的发展及研究现状第17-24页
     ·机理研究第18-21页
     ·介质阻挡放电的应用研究进展第21-24页
       ·翼型、机身减阻增升第21-22页
       ·涡轮及压气机的扩稳增效第22-24页
   ·本文主要研究目的和内容第24-26页
第二章 等离子体激励器的数值模拟及其在压气机上的应用第26-57页
   ·引言第26页
   ·基于体积力线性分布理论模型及计算结果分析第26-34页
     ·体积力模型第27-28页
     ·流动控制方程第28-29页
     ·研究对象、数值计算方法及边界条件设定第29-30页
     ·计算结果及分析第30-34页
   ·静态电场模型第34-46页
     ·静电场求解第34-39页
       ·电势的处理第34-37页
       ·电荷的处理第37-39页
       ·体积力的求解第39页
     ·流动控制方程第39-40页
     ·研究对象及数值计算方法第40-46页
     ·两种模拟方法的对比分析第46页
   ·介质阻挡放电流动控制提高轴流压气机失速工作裕度机理探索第46-55页
     ·单通道数值模拟方法的可行性验证及方案设计第48页
     ·计算结果及分析第48-55页
   ·本章小结第55-57页
第三章 实验平台及测试系统第57-70页
   ·低速单转子压气机实验台简介第57-58页
   ·等离子体发生及测量装置第58-61页
   ·测试及数据采集方法第61-63页
   ·等离子体射流机匣设计及优化第63-69页
     ·全环等离子体激励机匣第64-66页
     ·非轴对称等离子体处理机匣第66-69页
   ·本章小结第69-70页
第四章 DBD流动控制实现低速轴流压气机扩稳的探索性研究第70-87页
   ·引言第70-71页
   ·研究对象及测量方案第71-73页
     ·研究对象第71-72页
     ·测量方案第72-73页
   ·等离子体激励单转子轴流压气机扩稳实验结果分析第73-86页
     ·等离子体激励器的布置方式对扩稳效果的影响第73-74页
     ·激励电源的影响第74-76页
     ·激励器位置的影响第76-78页
     ·激励电压的影响第78-80页
     ·激励频率的影响第80-82页
     ·转速的影响第82-83页
     ·前缘与尾缘施加等离子体激励第83-86页
   ·本章小结第86-87页
第五章 总结与展望第87-90页
   ·主要结论第87-88页
   ·主要创新点第88页
   ·研究展望第88-90页
主要符号说明第90-92页
参考文献第92-99页
攻读硕士学位期间发表论文与专利申请第99-100页
致谢第100页

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