激光直写法制备仿刚毛微纳阵列的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-24页 |
| ·本文研究的意义及背景 | 第12-13页 |
| ·壁虎脚掌的研究概况 | 第13-14页 |
| ·微阵列应用概述 | 第14-17页 |
| ·微阵列在粘附方面的重要应用 | 第14-16页 |
| ·微阵列在其他方面应用 | 第16-17页 |
| ·仿刚毛粘附阵列的研究概况 | 第17-21页 |
| ·仿壁虎粘附阵列的研究现状 | 第17-21页 |
| ·仿壁虎粘附阵列的制备技术 | 第21页 |
| ·激光直写概述 | 第21-22页 |
| ·本文研究目标及主要内容 | 第22-24页 |
| 第二章 仿壁虎刚毛阵列的模型与分析 | 第24-30页 |
| ·阵列粘附模型 | 第24-25页 |
| ·直立分级结构模型 | 第25-29页 |
| ·本章小结 | 第29-30页 |
| 第三章 一级结构阵列制备 | 第30-38页 |
| ·试验材料 | 第30-32页 |
| ·干膜光致抗蚀剂的结构 | 第30页 |
| ·光阻层的主要成分及作用 | 第30-31页 |
| ·干膜的力学性能参数测量 | 第31-32页 |
| ·试验设备 | 第32-34页 |
| ·硬基底一级结构制备 | 第34-36页 |
| ·制备工艺 | 第34-35页 |
| ·硬基底结构制备结果 | 第35-36页 |
| ·软基底一级结构制备 | 第36-37页 |
| ·软基底制备工艺 | 第36-37页 |
| ·软基底制备结果 | 第37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第四章 制备参数的影响与分析 | 第38-47页 |
| ·曝光步骤的影响 | 第38-42页 |
| ·曝光时间对曝光深度的影响 | 第38-39页 |
| ·曝光时间对阵列倒伏形态的影响 | 第39-41页 |
| ·曝光时间对阵列柱形貌的影响 | 第41-42页 |
| ·显影时间对显影深度的影响 | 第42-44页 |
| ·显影时间对显影深度的影响 | 第42-43页 |
| ·显影对径向尺寸的影响 | 第43-44页 |
| ·间距对阵列的影响 | 第44-45页 |
| ·一级结构问题讨论 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第五章 二级结构阵列制备 | 第47-59页 |
| ·“自下而上”制备方法介绍 | 第47-52页 |
| ·制备方案一 | 第47-49页 |
| ·制备结果及讨论 | 第49-50页 |
| ·制备方案二 | 第50-51页 |
| ·制备结果及讨论 | 第51-52页 |
| ·“自上而下”制备方法介绍 | 第52-55页 |
| ·制备方案 | 第52-53页 |
| ·制备结果 | 第53-55页 |
| ·制备方式及结果对比 | 第55-57页 |
| ·两种制备方式对比 | 第55-56页 |
| ·两种倒伏情况对比 | 第56页 |
| ·显影液置换及超声振动的作用 | 第56-57页 |
| ·厚胶直接曝光法探索 | 第57-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第六章 仿壁虎微阵列的粘附性能测试 | 第59-67页 |
| ·试验仪器与设备 | 第59-61页 |
| ·试验过程 | 第61页 |
| ·测试结果 | 第61-65页 |
| ·单个阵列测试 | 第61-62页 |
| ·不同基底阵列力学测试 | 第62页 |
| ·不同直径阵列力学测试 | 第62-63页 |
| ·不同间距阵列力学测试 | 第63-64页 |
| ·不同高度阵列力学测试 | 第64-65页 |
| ·不同曝光时间阵列力学测试 | 第65页 |
| ·本章总结 | 第65-67页 |
| 第七章 总结与展望 | 第67-69页 |
| ·主要工作及结论 | 第67页 |
| ·本文创新点 | 第67-68页 |
| ·工作展望 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 在学期间的研究成果及发表的论文 | 第73页 |
