| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-27页 |
| ·磁电材料简介 | 第10-16页 |
| ·磁电效应产生的机理 | 第10-14页 |
| ·磁电材料的应用 | 第14-16页 |
| ·磁电材料的发展过程及研究现状 | 第16-21页 |
| ·单相磁电材料 | 第16-17页 |
| ·复合磁电材料 | 第17-19页 |
| ·磁电薄膜材料 | 第19-21页 |
| ·水热法简介 | 第21-26页 |
| ·水热反应的基本特点和类型 | 第21-23页 |
| ·水热反应介质 | 第23-24页 |
| ·水热合成锆钛酸铅 | 第24-26页 |
| ·本论文的研究思路和研究内容 | 第26-27页 |
| 第二章 Ni/PZT 磁电复合薄膜的制备和性能表征 | 第27-34页 |
| ·材料的合成与制备 | 第27-30页 |
| ·实验原料 | 第27页 |
| ·材料的制备 | 第27-30页 |
| ·样品表征 | 第30-34页 |
| ·X 射线衍射分析（XRD） | 第30页 |
| ·扫描电镜分析（SEM） | 第30-31页 |
| ·铁磁性能分析 | 第31页 |
| ·铁电性能分析 | 第31页 |
| ·磁电性能分析 | 第31-34页 |
| 第三章 制备工艺与Ni/PZT 薄膜的水热生长机理研究 | 第34-44页 |
| ·缓冲层的选择 | 第34-37页 |
| ·实验工艺对缓冲层厚度的影响 | 第37-39页 |
| ·水热温度对Ni/PZT 薄膜结构的影响 | 第39-41页 |
| ·生长机理的研究 | 第41-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章 水热温度与缓冲层厚度对 Ni/PZT 薄膜性能的影响 | 第44-57页 |
| ·水热温度对 Ni/PZT 薄膜性能的影响 | 第44-51页 |
| ·水热温度对 Ni/PZT 薄膜铁电和铁磁性能的影响 | 第44-49页 |
| ·水热温度对 Ni/PZT 薄膜磁电性能的影响 | 第49-51页 |
| ·缓冲层厚度对 Ni/PZT 薄膜磁电性能的影响 | 第51-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第五章 结论 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 在学期间发表的学术论文 | 第66页 |
