磁控溅射法低温制备ITO透明导电薄膜工艺研究
| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-17页 |
| ·透明导电膜的种类及特点 | 第10-14页 |
| ·透明导电薄膜的种类及应用 | 第10-11页 |
| ·透明导电薄膜的制备方法 | 第11页 |
| ·ITO 薄膜的组织结构 | 第11-12页 |
| ·In_2O_3 薄膜的光学性质 | 第12-14页 |
| ·ITO 薄膜的电学性质 | 第14页 |
| ·透明导电薄膜的应用 | 第14-15页 |
| ·国内外研究现状 | 第15-16页 |
| ·本文研究内容及创新点 | 第16-17页 |
| 第2章 磁控溅射镀膜原理 | 第17-26页 |
| ·溅射分类比较 | 第17-18页 |
| ·溅射镀膜的原理 | 第18-23页 |
| ·辉光放电现象 | 第18-22页 |
| ·磁控溅射原理 | 第22-23页 |
| ·溅射过程 | 第23-25页 |
| ·靶材溅射现象 | 第23-24页 |
| ·溅射粒子成膜过程 | 第24-25页 |
| ·本章小结 | 第25-26页 |
| 第3章 射频磁控溅射方法制备ITO 薄膜 | 第26-32页 |
| ·实验 | 第26-27页 |
| ·实验设备 | 第26-27页 |
| ·实验样品的预处理 | 第27页 |
| ·ITO 膜制备方法 | 第27页 |
| ·薄膜的性能和结构测试 | 第27-30页 |
| ·薄膜紫外可见光透过率测试 | 第27-28页 |
| ·薄膜XRD 结构测试 | 第28-29页 |
| ·薄膜的方阻及电阻率测试 | 第29-30页 |
| ·薄膜厚度测试 | 第30页 |
| ·本章小结 | 第30-32页 |
| 第4章 光学薄膜厚度的简单测量方法 | 第32-35页 |
| ·干涉方法测量半导体膜厚原理 | 第32-33页 |
| ·膜厚测量 | 第33-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第5章 工艺参数对ITO 薄膜特性的影响 | 第35-48页 |
| ·基片温度对ITO 薄膜光电性能的影响 | 第35-37页 |
| ·氧分压对ITO 薄膜光电性能的影响 | 第37-39页 |
| ·溅射功率对ITO 薄膜的光电性能的影响 | 第39-41页 |
| ·工作气压对ITO 薄膜光电性能的影响 | 第41-43页 |
| ·靶基距对ITO 薄膜光电性能的影响 | 第43-44页 |
| ·柔软有机基底PET 上制ITO 薄膜 | 第44-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第六章 直流磁控溅射法制备薄膜 | 第48-53页 |
| ·溅射功率对薄膜光电性能的影响 | 第48-49页 |
| ·氧分压对薄膜光电性能的影响 | 第49-50页 |
| ·工作气压对薄膜光电性能的影响 | 第50-51页 |
| ·热处理工艺对薄膜光电性能的影响 | 第51页 |
| ·结论 | 第51-53页 |
| 第七章 总结与展望 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 附录A: 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第60页 |
