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CH4/H2系统电子助进化学气相沉积气相过程研究

摘要第1-5页
Abstract第5-7页
第一章 引言第7-9页
第二章 直流电场中甲烷分子的分解第9-15页
 第一节 模型第9-11页
 第二节 直流电场中甲烷的分解过程第11-15页
第三章 CH_4/H_2为源气体的EACVD气相过程第15-35页
 第一节 模型第15-16页
 第二节 EACVD气相过程中的电子行为第16-20页
 第三节 CH_4、H_2的分解过程第20-29页
 第四节 CH_4/H_2为源气体的气相过程中CH_4的电离过程第29页
 第五节 典型实验条件下气相过程的研究第29-35页
第四章 低温沉积金刚石薄膜机理的研究第35-41页
第五章 结束语第41-43页
参考文献第43-46页

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