| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 1 绪论 | 第11-23页 |
| ·纳米科技与纳米材料 | 第11页 |
| ·纳米材料的分类 | 第11-12页 |
| ·纳米材料引起的效应 | 第12-13页 |
| ·碳与碳纳米管 | 第13-14页 |
| ·单壁碳纳米管的结构 | 第14-16页 |
| ·碳纳米管的物性与应用 | 第16-19页 |
| ·碳纳米管的力学性质及应用 | 第17页 |
| ·碳纳米管的电学性质及应用 | 第17-18页 |
| ·碳纳米管的场发射性质及应用 | 第18页 |
| ·碳纳米管的超导性质及应用 | 第18页 |
| ·碳纳米管的光学性质及应用 | 第18页 |
| ·碳纳米管的存储性质及应用 | 第18-19页 |
| ·单壁碳纳米管的制备 | 第19-21页 |
| ·电弧法 | 第19-20页 |
| ·激光蒸发法 | 第20-21页 |
| ·催化分解(CVD)法 | 第21页 |
| ·本课题研究的意义与内容 | 第21-23页 |
| ·本课题研究的意义 | 第21-22页 |
| ·本课题研究内容 | 第22-23页 |
| 2 碳纳米管的制备及形貌研究 | 第23-32页 |
| ·制备装置和制备原理 | 第23-24页 |
| ·制备装置 | 第23-24页 |
| ·制备原理 | 第24页 |
| ·辅助剂的作用分析 | 第24-25页 |
| ·缓冲气体对单壁碳纳米管制备的影响 | 第24页 |
| ·催化剂的选择 | 第24-25页 |
| ·助长剂的选择及其对单壁碳纳米管生长的影响 | 第25页 |
| ·黏合剂的应用 | 第25页 |
| ·制备过程与现象 | 第25-27页 |
| ·阴极和阳极的准备 | 第25页 |
| ·真空的获得 | 第25页 |
| ·点弧 | 第25-26页 |
| ·实验现象 | 第26页 |
| ·沉积与钝化 | 第26页 |
| ·产品的捕集 | 第26页 |
| ·实验参数 | 第26-27页 |
| ·碳纳米管的纯化 | 第27-28页 |
| ·物理方法 | 第27页 |
| ·化学方法 | 第27-28页 |
| ·本实验采用的方法 | 第28-29页 |
| ·纯化原理 | 第28页 |
| ·纯化过程及实验结论 | 第28-29页 |
| ·对纯化前后样品的电镜检测及分析 | 第29-32页 |
| ·产品的电镜图片 | 第29-30页 |
| ·检测结构分析 | 第30-32页 |
| 3 单壁碳纳米管场发射模型及理论推导 | 第32-41页 |
| ·理论依据 | 第32页 |
| ·物理模型 | 第32页 |
| ·场方程及边界条件 | 第32-33页 |
| ·理论推导 | 第33-41页 |
| ·求解拉普拉斯方程 | 第33-38页 |
| ·势函数中待定常数的确定 | 第38-40页 |
| ·电场强度及场增强因子的确定 | 第40-41页 |
| 4 单壁碳纳米管场发射曲线计算及分析 | 第41-48页 |
| ·单壁碳纳米管场发射电势曲线计算及分析 | 第41-42页 |
| ·碳纳米管尖端附近电势相对于背景场电势随径向距离变化曲线 | 第41-42页 |
| ·碳纳米管尖端附近电势相对于背景场电势随轴向距离变化曲线 | 第42页 |
| ·结论 | 第42页 |
| ·场强分布 | 第42-44页 |
| ·碳纳米管尖端附近相对电场强度沿径向变化曲线 | 第42-43页 |
| ·碳纳米管的尖端附近相对电场强度沿轴向变化曲线 | 第43-44页 |
| ·不同情况下碳纳米管场增强因子的变化曲线 | 第44-48页 |
| ·碳纳米管场增强因子与其长度的关系曲线 | 第44-45页 |
| ·碳纳米管场增强因子与其半径的关系曲线 | 第45-46页 |
| ·碳纳米管场增强因子与极板间距的关系曲线 | 第46-48页 |
| 5 结论 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-53页 |
| 在学研究成果 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54页 |