| 第1章 绪论 | 第1-31页 |
| ·滑动摩擦基础研究 | 第10-17页 |
| ·滑动摩擦理论 | 第10-14页 |
| ·影响滑动摩擦的因素 | 第14-17页 |
| ·物理气相沉积(PVD) | 第17-22页 |
| ·物理气相沉积(PVD)概述 | 第17页 |
| ·PVD涂层技术的分类与进展 | 第17-19页 |
| ·PVD涂层技术的发展趋势 | 第19-21页 |
| ·PVD涂层展望 | 第21-22页 |
| ·TiAIN涂层的研究现状 | 第22-29页 |
| ·TiAIN涂层特点 | 第22-23页 |
| ·TiAIN涂层制备工艺方法 | 第23页 |
| ·影响 TiAIN涂层制备的工艺因素 | 第23-25页 |
| ·铝在 TiAIN涂层中的作用 | 第25-27页 |
| ·TiAIN涂层摩擦学研究现状 | 第27-29页 |
| ·本研究的目的和意义 | 第29页 |
| ·论文的研究内容 | 第29-31页 |
| 第2章 试验方法和材料 | 第31-36页 |
| ·试验材料的选择和制备 | 第31-32页 |
| ·对磨球试样材料 | 第31页 |
| ·平面试样材料 | 第31-32页 |
| ·涂层制备 | 第32页 |
| ·试验装置与试验参数 | 第32-35页 |
| ·高精度 PLINT摩擦试验机 | 第33-34页 |
| ·CETR多功能摩擦磨损试验机 | 第34-35页 |
| ·微观分析方法 | 第35-36页 |
| 第3章 大接触应力下TiAIN涂层摩擦学行为研究 | 第36-53页 |
| ·法向载荷对摩擦行为的影响 | 第36-40页 |
| ·基体 | 第36-37页 |
| ·磁控溅射 TiAIN涂层 | 第37-38页 |
| ·离子镀 TiAIN涂层 | 第38-39页 |
| ·不同法向载荷下基体与涂层摩擦行为比较 | 第39-40页 |
| ·位移幅值对摩擦行为的影响 | 第40-43页 |
| ·基体材料 | 第41页 |
| ·磁控溅射 TiAIN涂层 | 第41-42页 |
| ·离子镀 TiAIN涂层 | 第42页 |
| ·不同位移幅值下基体与涂层的摩擦行为比较 | 第42-43页 |
| ·往复滑动磨损分析 | 第43-49页 |
| ·磨痕形貌 | 第43-48页 |
| ·磨痕XRD分析 | 第48页 |
| ·磨痕深度分析 | 第48-49页 |
| ·润滑条件下涂层摩擦磨损行为研究 | 第49-51页 |
| ·摩擦特性 | 第49-50页 |
| ·磨损特性 | 第50-51页 |
| ·本章小结 | 第51-53页 |
| 第4章 小接触应力下 TiAIN涂层摩擦学行为研究 | 第53-69页 |
| ·法向载荷对摩擦行为的影响 | 第53-56页 |
| ·磁控溅射 TiAIN涂层 | 第53-55页 |
| ·离子镀 TiAIN涂层 | 第55-56页 |
| ·位移幅值对摩擦行为的影响 | 第56-59页 |
| ·磁控溅射TiAIN涂层 | 第56-57页 |
| ·离子镀TiAIN涂层 | 第57-59页 |
| ·两种TiAIN涂层摩擦行为比较 | 第59-60页 |
| ·往复滑动磨损分析 | 第60-67页 |
| ·磨痕形貌 | 第60-66页 |
| ·磨痕深度分析 | 第66-67页 |
| ·本章小结 | 第67-69页 |
| 第5章 综合讨论 | 第69-79页 |
| ·接触应力计算 | 第69-71页 |
| ·相同接触应力下两种试验装置试验结果对比 | 第71-74页 |
| ·磁控溅射TiAIN涂层 | 第71-72页 |
| ·离子镀TiAIN涂层 | 第72-74页 |
| ·两种试验装置试验结果的讨论 | 第74-76页 |
| ·切削试验 | 第76-78页 |
| ·切削试验参数 | 第76-77页 |
| ·切削试验结果 | 第77-78页 |
| ·小结 | 第78-79页 |
| 结论 | 第79-80页 |
| 致谢 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-87页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第87页 |