高气压直流辉光放电及碳纳米管的制备
| 第一章 绪论 | 第1-24页 |
| 第一节 碳纳米管的结构 | 第7-13页 |
| 一、与碳纳米管相关的碳材料简介 | 第7-10页 |
| 二、碳纳米管的结构与分类 | 第10-13页 |
| 第二节 碳纳米管的特性与应用 | 第13-16页 |
| 一、碳纳米管在电子学方面的应用 | 第14-15页 |
| 二、碳纳米管的力学应用 | 第15页 |
| 三、碳纳米管在储氢方面的应用 | 第15页 |
| 四、做为催化剂载体 | 第15-16页 |
| 第三节 碳纳米管的研究历史与现状 | 第16-23页 |
| 一、碳纳米管的研究历史 | 第16页 |
| 二、碳纳米管的制备方法 | 第16-19页 |
| 三、碳纳米管的研究现状 | 第19-23页 |
| 第四节 论文选题及主要研究内容 | 第23-24页 |
| 第二章 辉光放电及碳纳米管的制备 | 第24-38页 |
| 第一节 设备 | 第24-25页 |
| 第二节 直流辉光放电 | 第25-33页 |
| 一、低气压直流辉光放电 | 第25-27页 |
| 二、高气压直流辉光放电状态 | 第27-28页 |
| 三、电极间距对高气压直流辉光放电的影响 | 第28-32页 |
| 四、反应气体的分解 | 第32-33页 |
| 第三节 碳纳米管的制备工艺 | 第33-36页 |
| 一、工艺过程的建立 | 第33-34页 |
| 二、制备工艺参数 | 第34页 |
| 三、制备金刚石膜与制备碳纳米管工艺对比 | 第34-35页 |
| 四、基片的选择 | 第35-36页 |
| 第四节 本章小结 | 第36-38页 |
| 第三章 碳纳米管的生长特性 | 第38-60页 |
| 第一节 CVD 方法制备碳纳米管的结晶与生长 | 第38-40页 |
| 一、CVD 方法生长碳纳米管的一般过程 | 第38-39页 |
| 二、金镍合金颗粒的形成 | 第39-40页 |
| 第二节 碳纳米管的 SEM 研究 | 第40-46页 |
| 一、基片温度对碳纳米管生长的影响 | 第40-42页 |
| 二、反应气体压强的影响 | 第42-43页 |
| 三、甲烷浓度的影响 | 第43-45页 |
| 四、金属催化剂的厚度对碳管的生长特性的影响 | 第45-46页 |
| 第三节 碳纳米管的拉曼光谱分析 | 第46-51页 |
| 一、碳纳米管的拉曼光谱 | 第46-47页 |
| 二、直流辉光等离子体方法制备碳纳米管的拉曼光谱 | 第47-49页 |
| 三、工艺参数对拉曼光谱特征峰的影响 | 第49-51页 |
| 第四节 碳纳米管的 TEM 研究 | 第51-58页 |
| 一、透射电镜观测结果 | 第51-53页 |
| 二、竹节状碳纳米管 | 第53-55页 |
| 三、Y 型碳纳米管 | 第55-58页 |
| 第五节 本章小结 | 第58-60页 |
| 第四章 全文总结 | 第60-65页 |
| 参考文献 | 第65-72页 |
| 中文摘要 | 第72-75页 |
| Abstract | 第75-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
| 导师及作者简介 | 第80页 |
