摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-11页 |
第一章 绪论 | 第11-18页 |
·课题的来源与意义 | 第11-13页 |
·目前国内外发展状况 | 第13-16页 |
·永磁魔环的设计 | 第14-15页 |
·磁滞模型 | 第15-16页 |
·本文的主要研究工作 | 第16-18页 |
第二章 烧结钕铁硼的显微组织结构与技术磁化 | 第18-29页 |
·烧结钕铁硼的显微组织结构分析 | 第18-23页 |
·烧结钕铁硼永磁材料制造工艺概述 | 第18-19页 |
·烧结钕铁硼相的组成 | 第19-21页 |
·烧结钕铁硼的扫描电镜分析 | 第21-22页 |
·烧结钕铁硼晶界的显微组织特征 | 第22-23页 |
·钕铁硼永磁体的技术磁化和反磁化 | 第23-28页 |
·自发磁化与磁畴理论概述 | 第23-24页 |
·技术磁化和反磁化概述 | 第24-26页 |
·钕铁硼永磁体技术磁化和反磁化过程中的磁畴移动 | 第26-28页 |
·小结 | 第28-29页 |
第三章 Preisach磁滞模型 | 第29-43页 |
·标量Preisach磁滞模型 | 第29-33页 |
·经典Preisach磁滞模型 | 第29-30页 |
·Preisach磁滞模型的发展 | 第30-31页 |
·一种改进的标量Preisach磁滞模型 | 第31-33页 |
·矢量Preisach磁滞模型 | 第33-42页 |
·Mayergoyz提出的矢量Preisach磁滞模型 | 第33-34页 |
·旋转矢量Hong磁滞模型 | 第34-37页 |
·一种简化矢量Preisach磁滞模型 | 第37-38页 |
·本文提出的一种简化矢量Preisach磁滞模型 | 第38-42页 |
·小结 | 第42-43页 |
第四章 永磁魔环装配过程的数值模拟 | 第43-58页 |
·永磁魔环的基本结构与装配过程受力分析 | 第43-48页 |
·低磁场永磁魔环结构 | 第43-44页 |
·强磁场永磁魔环结构 | 第44-45页 |
·温度对永磁魔环性能的影响 | 第45-46页 |
·魔环的组装过程与受力分析 | 第46-48页 |
·永磁魔环装配过程中异常磁化的数值模拟 | 第48-57页 |
·装配过程中异常磁化产生的机理和本质 | 第48-51页 |
·旋转磁化产生的条件 | 第51-52页 |
·体电流法与矢量Preisach磁滞模型的耦合 | 第52-53页 |
·装配过程的数值计算方法 | 第53-56页 |
·装配过程中局部饱和、局部退磁位置的显示 | 第56-57页 |
·小结 | 第57-58页 |
第五章 一种新的强永磁魔环机构的设计 | 第58-81页 |
·一种新的强永磁魔环基本结构的确定 | 第58-63页 |
·原8单元增强型永磁魔环机构 | 第58-60页 |
·本文提出的永磁魔环基本结构 | 第60-62页 |
·静磁屏蔽固定外壳的设计 | 第62-63页 |
·永磁魔环机构的优化设计 | 第63-75页 |
·磁性材料的确定与实验数据的处理 | 第63-66页 |
·正交实验法与正交设计 | 第66-71页 |
·穷举法及魔环机构优化结果 | 第71-74页 |
·魔环机构设计合理性的验证 | 第74-75页 |
·永磁魔环机构的制造工艺及检测 | 第75-80页 |
·实际制造的魔环的结构及其制造工艺 | 第75-77页 |
·魔环机构的磁场测量与误差分析 | 第77-79页 |
·实际制造的魔环机构的缺点及改进方案 | 第79-80页 |
·小结 | 第80-81页 |
第六章 结论 | 第81-83页 |
参考文献 | 第83-87页 |
附录 烧结钕铁硼极限磁滞回环数据 | 第87-89页 |
在学研究成果 | 第89-90页 |
致谢 | 第90页 |