| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-20页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·喷射沉积技术的原理和特点 | 第11-12页 |
| ·喷射沉积技术的发展 | 第12-18页 |
| ·喷射沉积技术的理论研究进展 | 第12-15页 |
| ·国外喷射沉积技术的产业化生产状况 | 第15页 |
| ·国内喷射沉积技术的产业化生产状况 | 第15-16页 |
| ·喷射沉积技术装置及其控制技术的发展状况 | 第16-18页 |
| ·大壁厚非规则管坯喷射沉积制备工艺的提出 | 第18页 |
| ·本文研究工作的背景及课题来源 | 第18-19页 |
| ·论文研究内容及章节安排 | 第19-20页 |
| 第二章 基于往复式管坯喷射沉积的非规则管坯制备工艺 | 第20-28页 |
| ·基底往复式管坯喷射沉积设备的构造及其工艺原理 | 第20-22页 |
| ·喷射沉积制备大壁厚非规则管坯的工艺方法 | 第22-24页 |
| ·喷射沉积制备非规则管坯工艺方法的研究目标 | 第22页 |
| ·喷射沉积制备非规则管坯工艺方法的研究内容 | 第22-24页 |
| ·大壁厚管坯喷射成形关键支撑工艺技术的研究 | 第24-27页 |
| ·沉积室非真空无氧（微氧）环境建立的研究 | 第24-25页 |
| ·漏包连续移液及液位控制的研究 | 第25页 |
| ·喷嘴喷射高度控制的研究 | 第25-27页 |
| ·本章小节 | 第27-28页 |
| 第三章 往复式管坯喷射沉积的模型建立及参数优化 | 第28-41页 |
| ·管坯形貌建模的理论基础 | 第28-31页 |
| ·雾化锥流率分布 | 第28-29页 |
| ·雾化锥流率空间分布 | 第29-30页 |
| ·粘附系数 | 第30-31页 |
| ·单层沉积轨迹的特征分析及其沉积厚度的仿真优化 | 第31-36页 |
| ·单层沉积轨迹的主要特征 | 第31-33页 |
| ·单层沉积厚度的计算仿真及参数优化 | 第33-36页 |
| ·参数m_(max) ，ω，d对沉积模型的影响 | 第36-37页 |
| ·改变m_(max) 对模型产生的影响 | 第36页 |
| ·改变ω对模型产生的影响 | 第36-37页 |
| ·改变d对模型产生的影响 | 第37页 |
| ·实验验证 | 第37-39页 |
| ·管坯生产实验 | 第37-38页 |
| ·基底半径对沉积层厚度的影响 | 第38-39页 |
| ·本章小结 | 第39-41页 |
| 第四章 非规则管坯形貌的模型建立及相关参数的影响 | 第41-50页 |
| ·雾化锥流率m_(max) 和基底往复速度v对单层沉积厚度的影响 | 第41-43页 |
| ·雾化锥流率m_(max) 对单层沉积厚度的影响 | 第41-42页 |
| ·基底往复速度v对单层沉积厚度的影响 | 第42页 |
| ·雾化锥流率m_(max) 、基底往复速度v以及单层沉积厚度之间的对应关系 | 第42-43页 |
| ·基于基底往复速度v的非规则管坯形貌的模型建立 | 第43-46页 |
| ·基于雾化锥流率m max 的非规则管坯形貌的控制 | 第46-47页 |
| ·基于分段函数的复杂管坯形貌的模型建立及控制 | 第47-48页 |
| ·单层沉积厚度轮廓线对应下的流率和速度的变化曲线 | 第48-49页 |
| ·本章小节 | 第49-50页 |
| 第五章 总结与展望 | 第50-52页 |
| 参考文献 | 第52-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第56-57页 |
| 附录 | 第57-62页 |
