| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| Contents | 第8-10页 |
| Chapter 1 Introduction | 第10-22页 |
| ·Renewable Energy and Photovoltaics | 第10-11页 |
| ·Crystalline Silicon solar Cell and Silicon Thin film Solar Cell | 第11-12页 |
| ·Hydrogenated amorphous silicon(a-Si:H) solar cell and Staebler-Wronski effect | 第12-15页 |
| ·Crystalline Silicon Thin Film Solar Cell | 第15-20页 |
| ·nanocrystalline silicon thin film | 第16-19页 |
| ·Polycrystalline silicon thin film | 第19-20页 |
| ·Object of the present study | 第20-22页 |
| Chapter 2 Experimental Techniques | 第22-28页 |
| ·Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition | 第22-23页 |
| ·Material characterization techniques | 第23-28页 |
| ·Raman Spectroscopy | 第23-25页 |
| ·X-ray diffraction(XRD) | 第25页 |
| ·Ultraviolet Visible Spectrum(UV-Vis) | 第25-26页 |
| ·PL Spectrum | 第26-27页 |
| ·Film Thickness Measurement | 第27-28页 |
| Chapter 3 Nanocrystalline Silicon thin films deposited by rf-PECVD at low temperature | 第28-57页 |
| ·Introduction | 第28页 |
| ·Dependence of deposition Pressure | 第28-38页 |
| ·Dependence of substrates temperature | 第38-44页 |
| ·Dependence of dilution ratio | 第44-55页 |
| ·Deposition Pressure at 300Pa | 第45-52页 |
| ·Deposition Pressure at 500Pa | 第52-55页 |
| ·Conclusion | 第55-57页 |
| Chapter 4 Polycrystalline silicon thin films prepared by Nickel induced lateral crystallization | 第57-66页 |
| ·Introduction | 第57-58页 |
| ·Experimental details | 第58-60页 |
| ·Electroless nickel plating | 第58-59页 |
| ·a-Si film deposition | 第59-60页 |
| ·Results and discussion | 第60-65页 |
| ·Conclusion | 第65-66页 |
| Chapter 5 Conclusions | 第66-67页 |
| References | 第67-73页 |
| Acknowledgements | 第73-74页 |
| List of publications | 第74页 |
