| 摘要 | 第1-14页 |
| ABSTRACT | 第14-18页 |
| 第一章 绪论 | 第18-50页 |
| ·介电材料与介电薄膜 | 第18-23页 |
| ·电介质与介电材料 | 第18-20页 |
| ·高介电薄膜栅极材料的研究背景及现状 | 第20-23页 |
| ·铁电材料与铁电薄膜 | 第23-34页 |
| ·铁电材料的基本特性 | 第23-26页 |
| ·铁电材料的发展 | 第26-27页 |
| ·铁电材料的分类 | 第27-29页 |
| ·铁电薄膜的发展与应用 | 第29-34页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第34-36页 |
| ·物理沉积法 | 第34-35页 |
| ·化学沉积法 | 第35-36页 |
| ·Bi_2Ti_2O_7、K_(0.5)Bi_(0.5)TiO_3材料概述 | 第36-38页 |
| ·Bi_2Ti_2O_7材料概述 | 第36-37页 |
| ·K_(0.5)Bi_(0.5)TiO_3材料概述 | 第37-38页 |
| ·本论文的选题依据、研究目的及内容 | 第38-42页 |
| 参考文献 | 第42-50页 |
| 第二章(Bi_(1-x)Ce_x)_2Ti_2O_7薄膜相稳定性及介电性能的研究 | 第50-69页 |
| ·引言 | 第50-51页 |
| ·实验过程 | 第51-54页 |
| ·衬底的处理 | 第51页 |
| ·前驱体溶液的配置 | 第51-52页 |
| ·薄膜的制备 | 第52-53页 |
| ·电极的制备 | 第53-54页 |
| ·薄膜的X射线衍射分析 | 第54-62页 |
| ·Si衬底的X射线衍射分析 | 第54页 |
| ·烧绿石相的相稳定性分析 | 第54-59页 |
| ·Ce~(3+)掺杂量对薄膜晶化温度的影响 | 第59-62页 |
| ·退火温度及Ce~(3+)掺杂量对薄膜漏电流的影响 | 第62-63页 |
| ·退火温度及Ce~(3+)掺杂量对薄膜介电常数的影响 | 第63-64页 |
| ·本章小结 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-69页 |
| 第三章(Bi_(0.88)Ce_(0.12))_2Ti_2O_7和(Bi_(0.84)Ce_(0.16))_2Ti_2O_7薄膜的结构及介电性能的研究 | 第69-92页 |
| ·引言 | 第69-70页 |
| ·BCTO(0.12)薄膜的结构及介电性能的研究 | 第70-83页 |
| ·BCTO(0.12)薄膜的X射线衍射分析 | 第70-71页 |
| ·BCTO(0.12)薄膜的X射线光电子能谱分析 | 第71-72页 |
| ·BCTO(0.12)薄膜的形貌分析 | 第72-75页 |
| ·表面形貌的扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第73页 |
| ·表面形貌的原子力显微镜(AFM)分析 | 第73-74页 |
| ·膜厚的测量 | 第74-75页 |
| ·BCTO(0.12)薄膜的紫外与可见光谱分析 | 第75-76页 |
| ·BCTO(0.12)薄膜的绝缘性能分析 | 第76-79页 |
| ·漏电流密度随时间的变化 | 第76-77页 |
| ·不同退火温度下BCTO(0.12)薄膜的I-V曲线 | 第77-79页 |
| ·BCTO(0.12)薄膜的C-V特性分析 | 第79-82页 |
| ·BCTO(0.12)薄膜的C-V回线 | 第79-81页 |
| ·BCTO(0.12)薄膜表面固定电荷密度的计算 | 第81-82页 |
| ·BCTO(0.12)薄膜介电常数与频率关系的研究 | 第82-83页 |
| ·BCTO(0.16)薄膜的结构及介电性能的研究 | 第83-87页 |
| ·BCTO(0.16)薄膜的X射线衍射分析 | 第83-84页 |
| ·BCTO(0.16)薄膜表面形貌扫描电镜分析 | 第84页 |
| ·BCTO(0.16)薄膜的绝缘性能分析 | 第84-86页 |
| ·BCTO(0.16)薄膜的C-V特性分析 | 第86-87页 |
| ·BCTO(0.16)薄膜介电常数与频率关系的研究 | 第87页 |
| ·本章小结 | 第87-90页 |
| 参考文献 | 第90-92页 |
| 第四章 K_(0.5)Bi_(0.5)TiO_3薄膜的制备及电学性能的研究 | 第92-108页 |
| ·引言 | 第92-94页 |
| ·实验过程 | 第94-96页 |
| ·薄膜的制备 | 第94-95页 |
| ·电极的制备 | 第95-96页 |
| ·KBT薄膜在不同衬底上的X射线衍射分析 | 第96-97页 |
| ·KBT薄膜在不同衬底上表面形貌的原子力显微镜分析 | 第97-98页 |
| ·KBT薄膜在不同衬底上的漏电流 | 第98-99页 |
| ·KBT薄膜的铁电性能 | 第99-102页 |
| ·KBT薄膜的介电温谱 | 第102-103页 |
| ·本章小结 | 第103-104页 |
| 参考文献 | 第104-108页 |
| 第五章 总结和展望 | 第108-112页 |
| 主要结论 | 第108-110页 |
| 论文创新点 | 第110-111页 |
| 需要进一步研究的内容 | 第111-112页 |
| 致谢 | 第112-113页 |
| 攻读博士学位期间已发表和即将发表的论文 | 第113-115页 |
| 附录 | 第115-125页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第125页 |
