真空阴极电弧离子镀层中宏观颗粒去除技术研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-41页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·阴极电弧源 | 第12-17页 |
| ·阴极斑点的特点 | 第13-14页 |
| ·液态颗粒的特点 | 第14-15页 |
| ·影响宏观颗粒数量和尺寸的因素 | 第15-17页 |
| ·去除宏观颗粒的现有技术 | 第17-25页 |
| ·阴极电弧源的改进 | 第17-18页 |
| ·宏观颗粒的过滤 | 第18-25页 |
| ·AlN 膜、TiAlN 膜以及多层结构膜 | 第25-29页 |
| ·AlN 膜层的研究现状 | 第26-27页 |
| ·TiAlN 膜以及多层结构膜的研究现状 | 第27-29页 |
| ·选题意义及主要研究内容 | 第29-31页 |
| ·参考文献 | 第31-41页 |
| 第2章 宏观颗粒产生以及去除的理论分析 | 第41-54页 |
| ·引言 | 第41页 |
| ·利用脉冲电弧电源降低宏观颗粒污染的思路 | 第41-48页 |
| ·阴极斑点处电流密度的理论计算 | 第41-44页 |
| ·真空阴极电弧放电的加热机制 | 第44-46页 |
| ·利用脉冲电弧电源降低液态颗粒污染的思路 | 第46-48页 |
| ·磁场过滤器的一般理论 | 第48-52页 |
| ·参考文献 | 第52-54页 |
| 第3章 试验思路及方法 | 第54-69页 |
| ·试验思路 | 第54-55页 |
| ·试验设备及材料 | 第55-57页 |
| ·检测、分析方法及仪器 | 第57-58页 |
| ·镀膜均匀性的测量 | 第58-66页 |
| ·基本原理 | 第59-61页 |
| ·改进的测量过程 | 第61页 |
| ·对测量的其它改进 | 第61-65页 |
| ·测量结果可信度研究 | 第65-66页 |
| ·本章小结 | 第66-68页 |
| ·参考文献 | 第68-69页 |
| 第4章 采用脉冲电源降低宏观颗粒污染的研究 | 第69-80页 |
| ·引言 | 第69页 |
| ·试验参数及宏观颗粒照片分析方法 | 第69-71页 |
| ·脉冲频率对宏观颗粒的影响 | 第71-75页 |
| ·占空比对宏观颗粒的影响 | 第75-78页 |
| ·本章小结 | 第78-79页 |
| ·参考文献 | 第79-80页 |
| 第5章 采用线圈过滤器去除宏观颗粒的研究 | 第80-110页 |
| ·引言 | 第80页 |
| ·线圈过滤器的设计原理 | 第80-85页 |
| ·可调式 | 第81-82页 |
| ·开放式 | 第82-84页 |
| ·电磁线圈 | 第84-85页 |
| ·线圈过滤器的关键设计因素 | 第85-93页 |
| ·线圈过滤器电源的选择 | 第86-87页 |
| ·单通道线圈过滤器的关键设计因素 | 第87-92页 |
| ·双通道线圈过滤器的关键设计因素 | 第92-93页 |
| ·线圈过滤器的过滤效率 | 第93-103页 |
| ·探针偏压的选择 | 第94-95页 |
| ·过滤效率与线圈电流的关系 | 第95-99页 |
| ·过滤效率与线圈电位的关系 | 第99-102页 |
| ·过滤效率的其它影响因素 | 第102-103页 |
| ·线圈过滤器的过滤效果 | 第103-106页 |
| ·本章小结：线圈过滤器的优势以及不足 | 第106-108页 |
| ·参考文献 | 第108-110页 |
| 第6章 线圈过滤器在制膜中的应用 | 第110-130页 |
| ·引言 | 第110页 |
| ·单通道线圈过滤器在制膜中的应用 | 第110-114页 |
| ·制备方法 | 第110-111页 |
| ·AlN 膜的表面形貌 | 第111-114页 |
| ·小结 | 第114页 |
| ·双通道线圈过滤器在制膜中的应用 | 第114-127页 |
| ·制备方法以及电弧不稳定性 | 第114-116页 |
| ·膜厚均匀性 | 第116-118页 |
| ·TiAlN 膜的成分和性能 | 第118-122页 |
| ·TiN/AlN 纳米多层膜制备初探 | 第122-126页 |
| ·小结 | 第126-127页 |
| ·参考文献 | 第127-130页 |
| 第7章 结论及创新点 | 第130-133页 |
| 致谢 | 第133-135页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第135页 |
