热膜式流量传感器设计与研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-18页 |
| ·本文研究的背景及意义 | 第10-11页 |
| ·目的意义 | 第11-12页 |
| ·流量传感器种类 | 第12-14页 |
| ·流量传感器专用芯片的研究背景 | 第14-16页 |
| ·目的意义 | 第14页 |
| ·国内外发展概况 | 第14-15页 |
| ·性能指标 | 第15-16页 |
| ·本文主要研究内容 | 第16页 |
| ·本文内容组织 | 第16-18页 |
| 第2章 传感器工作原理 | 第18-28页 |
| ·引言 | 第18页 |
| ·硅热流量传感器的工作原理 | 第18-21页 |
| ·热损失型硅热流量传感器 | 第18-19页 |
| ·热脉冲型硅热流量传感器 | 第19页 |
| ·热温差型硅热流量传感器 | 第19-21页 |
| ·原理与结构 | 第21-27页 |
| ·热膜式气体质量流量传感器的原理 | 第21-24页 |
| ·热膜式气体质量流量传感器的结构 | 第24-27页 |
| ·本章小结 | 第27-28页 |
| 第3章 传感器设计 | 第28-42页 |
| ·方案设计 | 第28-37页 |
| ·敏感元件设计 | 第28-32页 |
| ·传感器封装设计 | 第32-33页 |
| ·封装参数设计 | 第33-37页 |
| ·流量芯片的结构设计 | 第37-38页 |
| ·电路设计 | 第38-39页 |
| ·关键技术及解决途径 | 第39-41页 |
| ·敏感元件低功耗的实现 | 第39-40页 |
| ·敏感元件和通气罩的胶粘工艺 | 第40页 |
| ·恒定温差控制电路 | 第40页 |
| ·信号处理电路 | 第40-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第4章 传感器工艺研究 | 第42-52页 |
| ·敏感元件制作工艺 | 第42-47页 |
| ·氮化硅膜生成 | 第44页 |
| ·坡莫合金淀积 | 第44-45页 |
| ·光刻 | 第45-46页 |
| ·导流槽刻蚀 | 第46-47页 |
| ·关键技术与解决措施 | 第47-49页 |
| ·低应力复合膜制造技术 | 第47-48页 |
| ·微细热敏金属薄膜生长及刻蚀技术 | 第48页 |
| ·薄膜结构微加工技术 | 第48页 |
| ·薄膜热敏电阻稳定性技术 | 第48页 |
| ·悬桥薄膜结构的制作技术 | 第48-49页 |
| ·敏感元件的性能测试 | 第49页 |
| ·传感器制作工艺 | 第49-51页 |
| ·工艺设计和工艺流程 | 第49-50页 |
| ·流量传感器精密封装工艺 | 第50页 |
| ·新工艺及其可行性分析-传感器电极保护技术研究 | 第50-51页 |
| ·结构与封装可靠性设计 | 第51页 |
| ·工艺控制措施 | 第51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第5章 传感器性能测试与结果分析 | 第52-58页 |
| ·引言 | 第52页 |
| ·传感器的一般性能 | 第52页 |
| ·传感器测试方法 | 第52-53页 |
| ·性能测试结果 | 第53-56页 |
| ·环境试验结果 | 第56-57页 |
| ·测试结果分析 | 第57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 结论 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-63页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文和取得的科研成果 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64页 |
