| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-27页 |
| 1.1 引言 | 第9-10页 |
| 1.2 钙钛矿发光二极管简介 | 第10-17页 |
| 1.2.1 钙钛矿发光材料 | 第10-11页 |
| 1.2.2 发光原理 | 第11-12页 |
| 1.2.3 器件结构 | 第12-13页 |
| 1.2.4 制备方法 | 第13-17页 |
| 1.3 钙钛矿发光二极管发展历程 | 第17-26页 |
| 1.4 本论文主要工作 | 第26-27页 |
| 第二章 改性空穴传输层对于钙钛矿发光二极管性能的影响 | 第27-38页 |
| 2.1 前言 | 第27页 |
| 2.2 实验部分 | 第27-29页 |
| 2.2.1 实验材料与仪器介绍 | 第28页 |
| 2.2.2 器件制备 | 第28-29页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第29-37页 |
| 2.3.1 旋涂PEDOT:PSS的基片温度对钙钛矿膜层的影响 | 第29-30页 |
| 2.3.2 PEDOT:PSS转速对钙钛矿膜层的影响 | 第30-31页 |
| 2.3.3 PSS改性PEDOT:PSS对器件性能的影响 | 第31-37页 |
| 2.4 本章小结 | 第37-38页 |
| 第三章 多次旋涂法对于钙钛矿膜层及其器件性能的影响 | 第38-52页 |
| 3.1 前言 | 第38页 |
| 3.2 实验部分 | 第38-39页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第39-50页 |
| 3.3.1 旋涂工艺对钙钛矿膜层及器件性能的影响 | 第39-44页 |
| 3.3.2 多次旋涂对钙钛矿膜层的厚度、吸收和光致发光光谱的影响 | 第44-47页 |
| 3.3.3 多次旋涂对钙钛矿膜层的形貌与晶体结构的影响 | 第47-49页 |
| 3.3.4 多次旋涂对器件性能的影响 | 第49-50页 |
| 3.4 本章小结 | 第50-52页 |
| 第四章 添加剂对于钙钛矿膜层及其器件性能的影响 | 第52-66页 |
| 4.1 前言 | 第52页 |
| 4.2 实验部分 | 第52-53页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第53-65页 |
| 4.3.1 添加剂PLA对钙钛矿膜层的吸收和光致发光谱的影响 | 第53-55页 |
| 4.3.2 添加剂PLA对钙钛矿膜层的晶体结构与形貌的影响 | 第55-56页 |
| 4.3.3 添加剂PLA对器件性能的影响 | 第56-59页 |
| 4.3.4 添加剂PEO对钙钛矿膜层的吸收和光致发光谱的影响 | 第59-61页 |
| 4.3.5 添加剂PEO对钙钛矿膜层的晶体结构与形貌的影响 | 第61-62页 |
| 4.3.6 添加剂PEO对器件性能的影响 | 第62-65页 |
| 4.4 本章小结 | 第65-66页 |
| 第五章 总结与展望 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-72页 |
| 附录1 攻读硕士学位期间撰写的论文 | 第72-73页 |
| 附录2 攻读硕士学位期间申请的专利 | 第73-74页 |
| 附录3 攻读硕士学位期间参加的科研项目 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75页 |
