压强及氮气对HFCVD硼掺杂金刚石膜的制备及性质影响
内容提要 | 第1-8页 |
第一章 绪论 | 第8-12页 |
·金刚石的结构 | 第8页 |
·金刚石的性质及应用 | 第8-12页 |
第二章 人工合成金刚石的原理与方法 | 第12-22页 |
·人工合成金刚石的历史 | 第12-13页 |
·化学气相沉积金刚石的生长机理 | 第13-18页 |
·石墨和金刚石相图 | 第13-14页 |
·金刚石CVD 过程中的生长基团和反应过程 | 第14-15页 |
·原子氢的作用 | 第15-16页 |
·CVD 金刚石膜的生长模式 | 第16-18页 |
·低压CVD 合成金刚石的设备简介 | 第18-20页 |
·热丝CVD 法和电子辅助热丝法 | 第18页 |
·微波等离子体CVD | 第18-19页 |
·直流热阴极等离子体CVD | 第19-20页 |
·直流等离子体喷射CVD 法 | 第20页 |
·硼掺杂金刚石膜的生长及应用进展 | 第20-21页 |
·论文的选题及主要研究内容 | 第21-22页 |
第三章 硼掺杂金刚石薄膜的制备及其表征 | 第22-40页 |
·电子辅助热灯丝化学气相沉积法简介 | 第22-24页 |
·实验设备简介 | 第22-23页 |
·热灯丝的选择 | 第23页 |
·硼源的选择 | 第23-24页 |
·硼掺杂金刚石薄膜的制备 | 第24-39页 |
·硼流量对生长硼掺杂金刚石膜的影响 | 第24-31页 |
·生长气压对生长硼掺杂金刚石膜的影响 | 第31-39页 |
·第三章总结 | 第39-40页 |
第四章 氮气对掺硼金刚石薄膜的制备及性质的影响 | 第40-52页 |
·实验方法 | 第40页 |
·氮气对生长金刚石薄膜的影响 | 第40-44页 |
·灯丝与基底间的距离对金刚石薄膜沉积的影响 | 第40-42页 |
·氮气浓度对金刚石薄膜沉积的影响 | 第42-44页 |
·氮气对生长硼掺杂薄膜的影响 | 第44-51页 |
·第四章总结 | 第51-52页 |
第五章 全文总结 | 第52-54页 |
参考文献 | 第54-63页 |
攻读硕士期间发表和提交的论文 | 第63-64页 |
致谢 | 第64-65页 |
中文摘要 | 第65-67页 |
Abstract | 第67-68页 |