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压强及氮气对HFCVD硼掺杂金刚石膜的制备及性质影响

内容提要第1-8页
第一章 绪论第8-12页
   ·金刚石的结构第8页
   ·金刚石的性质及应用第8-12页
第二章 人工合成金刚石的原理与方法第12-22页
   ·人工合成金刚石的历史第12-13页
   ·化学气相沉积金刚石的生长机理第13-18页
     ·石墨和金刚石相图第13-14页
     ·金刚石CVD 过程中的生长基团和反应过程第14-15页
     ·原子氢的作用第15-16页
     ·CVD 金刚石膜的生长模式第16-18页
   ·低压CVD 合成金刚石的设备简介第18-20页
     ·热丝CVD 法和电子辅助热丝法第18页
     ·微波等离子体CVD第18-19页
     ·直流热阴极等离子体CVD第19-20页
     ·直流等离子体喷射CVD 法第20页
   ·硼掺杂金刚石膜的生长及应用进展第20-21页
   ·论文的选题及主要研究内容第21-22页
第三章 硼掺杂金刚石薄膜的制备及其表征第22-40页
   ·电子辅助热灯丝化学气相沉积法简介第22-24页
     ·实验设备简介第22-23页
     ·热灯丝的选择第23页
     ·硼源的选择第23-24页
   ·硼掺杂金刚石薄膜的制备第24-39页
     ·硼流量对生长硼掺杂金刚石膜的影响第24-31页
     ·生长气压对生长硼掺杂金刚石膜的影响第31-39页
   ·第三章总结第39-40页
第四章 氮气对掺硼金刚石薄膜的制备及性质的影响第40-52页
   ·实验方法第40页
   ·氮气对生长金刚石薄膜的影响第40-44页
     ·灯丝与基底间的距离对金刚石薄膜沉积的影响第40-42页
     ·氮气浓度对金刚石薄膜沉积的影响第42-44页
   ·氮气对生长硼掺杂薄膜的影响第44-51页
   ·第四章总结第51-52页
第五章 全文总结第52-54页
参考文献第54-63页
攻读硕士期间发表和提交的论文第63-64页
致谢第64-65页
中文摘要第65-67页
Abstract第67-68页

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