| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第9-26页 |
| 1.1 研究背景 | 第9-10页 |
| 1.1.1 化学浴沉积法制备薄膜的研究背景 | 第9-10页 |
| 1.1.2 透明导电薄膜 | 第10页 |
| 1.2 氧化锌的结构与性质 | 第10-16页 |
| 1.2.1 ZnO 的晶体结构 | 第11-12页 |
| 1.2.2 ZnO 的能带结构 | 第12-14页 |
| 1.2.3 ZnO 的性质 | 第14-16页 |
| 1.2.3.1 ZnO 薄膜的光学性质 | 第14-15页 |
| 1.2.3.2 ZnO 薄膜的磁学性质 | 第15页 |
| 1.2.3.3 ZnO 薄膜的压敏性质 | 第15-16页 |
| 1.2.3.4 ZnO 薄膜的气敏性质 | 第16页 |
| 1.2.3.5 ZnO 薄膜的电学性能 | 第16页 |
| 1.3 氧化锌的制备方法 | 第16-24页 |
| 1.3.1 金属有机化学气相沉积 | 第17-18页 |
| 1.3.2 等离子体化学气相沉积 | 第18-19页 |
| 1.3.3 磁控溅射方法 | 第19-20页 |
| 1.3.4 脉冲激光沉积 | 第20-21页 |
| 1.3.5 溶胶-凝胶方法 | 第21页 |
| 1.3.6 雾化热解方法 | 第21-22页 |
| 1.3.7 化学浴沉积法 | 第22-24页 |
| 1.4 研究目的与意义 | 第24页 |
| 1.5 本论文研究的内容 | 第24-26页 |
| 第二章 实验原理与实验方法 | 第26-41页 |
| 2.1 化学浴沉积的理论背景 | 第26-28页 |
| 2.1.1 溶解度和离子产物的概念 | 第26-27页 |
| 2.1.2 薄膜的形成 | 第27页 |
| 2.1.3 CBD 制备 ZnO 薄膜反应原理： | 第27-28页 |
| 2.1.4 化学浴沉积法制备氧化锌薄膜的主要影响因素及难点 | 第28页 |
| 2.2 实验部分 | 第28-33页 |
| 2.2.1 本实验主要研究内容： | 第28-29页 |
| 2.2.2 实验设备及主要药品 | 第29-30页 |
| 2.2.3 实验方案设计 | 第30-32页 |
| 2.2.4 实验过程 | 第32页 |
| 2.2.5 实验操作流程 | 第32-33页 |
| 2.3 性能检测 | 第33-41页 |
| 2.3.1 薄膜性能表征方法 | 第33-35页 |
| 2.3.2 薄膜性能测试及原理 | 第35-41页 |
| 第三章 实验结果分析 | 第41-61页 |
| 3.1 薄膜生长方式分析 | 第41-42页 |
| 3.1.1 薄膜生长过程 | 第41页 |
| 3.1.2 薄膜的生长模式 | 第41-42页 |
| 3.2 薄膜的结构及其影响因素 | 第42-56页 |
| 3.2.1 探索实验 | 第42-45页 |
| 3.2.2 工艺参数对薄膜结构影响的实验 | 第45-56页 |
| 3.2.2.1 对于薄膜成核点分布情况的研究 | 第45-47页 |
| 3.2.2.2 不同前驱物浓度对薄膜沉积的影响 | 第47-50页 |
| 3.2.2.3 不同 pH 值的试验 | 第50-51页 |
| 3.2.2.4 不同沉积温度： | 第51-53页 |
| 3.2.2.5 不同沉积时间 | 第53-55页 |
| 3.2.2.6 不同的双氧水用量： | 第55页 |
| 3.2.2.7 磁力搅拌子的不同转速 | 第55-56页 |
| 3.3 薄膜厚度的检测 | 第56-58页 |
| 3.4 薄膜透光率的检测 | 第58-60页 |
| 3.5 验证实验 | 第60页 |
| 3.6 本章小节 | 第60-61页 |
| 总结及展望 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-66页 |
| 攻读学位期间取得的研究成果 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67页 |