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GaN基毫米波雪崩渡越时间器件研究

摘要第5-7页
ABSTRACT第7-9页
符号对照表第14-16页
缩略语对照表第16-19页
第一章 绪论第19-31页
    1.1 GaN材料简介第19-20页
    1.2 毫米波及太赫兹波简介第20-22页
    1.3 毫米波及太赫兹波辐射源简介第22-24页
    1.4 GaN基IMPATT器件研究背景第24-27页
    1.5 GaN基IMPATT器件研究现状与存在问题第27-29页
    1.6 本文安排第29-31页
第二章 GaN基IMPATT二极管工作原理及仿真方法第31-45页
    2.1 雪崩倍增第31-33页
    2.2 雪崩渡越二极管的器件结构及工作原理第33-39页
        2.2.1 雪崩渡越二极管的工作原理第33-36页
        2.2.2 雪崩渡越二极管的器件结构第36-38页
        2.2.3 IMPATT器件的交流电压调制因子第38-39页
    2.3 Silvaco-Altlas仿真平台简介第39-43页
        2.3.1 Silvaco-Atlas的基本方程第39-42页
        2.3.2 Silvaco-Atlas仿真模拟过程第42-43页
    2.4 本章小结第43-45页
第三章 GaN基IMPATT二极管特性研究第45-61页
    3.1 GaN基IMPATT结构设计及主要器件参数第45-46页
    3.2 GaN基IMPATT直流及交流特性研究第46-59页
        3.2.1 雪崩结P型区浓度对GaNIMPATT特性的影响第46-49页
        3.2.2 雪崩区浓度对GaNIMPATT特性的影响第49-51页
        3.2.3 雪崩区宽度对GaNIMPATT特性的影响第51-54页
        3.2.4 漂移区浓度对GaNIMPATT特性的影响第54-57页
        3.2.5 漂移区宽度对GaNIMPATT特性的影响第57-59页
    3.3 本章小结第59-61页
第四章 负微分迁移率效应对IMPATT器件性能的增强作用第61-83页
    4.1 本章研究背景第61-63页
    4.2 GaN材料速场关系及模型第63-67页
        4.2.1 GaN的电子速场关系介绍第64-65页
        4.2.2 GaN电子速场关系的解析模型第65-67页
    4.3 空间电荷效应及其影响第67-68页
    4.4 器件结构和仿真方法第68-72页
    4.5 负微分迁移率效应对器件性能的增强机理第72-80页
    4.6 本章小结第80-83页
第五章 各向异性对GaN基IMPATT器件工作性能的影响第83-99页
    5.1 本章研究背景简介第83-84页
    5.2 用于各向异性研究的器件结构,参数第84-86页
        5.2.1 用于各向异性研究的器件结构设计第84页
        5.2.2 GaN材料参数的各向异性第84-86页
    5.3 GaN的各向异性对IMPATT器件性能的影响分析第86-97页
        5.3.1 各向异性对直流特性的影响第86-88页
        5.3.2 各向异性对交流特性的影响第88-97页
    5.4 本章小结第97-99页
第六章 GaN基IMPATT二极管串联电阻效应研究第99-109页
    6.1 研究方法及电路第99-100页
    6.2 串联电阻效应对GaN基IMPATT性能的衰减作用分析第100-106页
    6.3 GaN欧姆接触工艺介绍第106-107页
        6.3.1 N型GaN欧姆接触发展现状第106页
        6.3.2 P型GaN欧姆接触发展现状第106-107页
    6.4 P型GaN欧姆接触带来的问题和解决方案第107-108页
    6.5 本章小结第108-109页
第七章 总结和展望第109-113页
    7.1 研究总结第109-110页
    7.2 未来工作展望第110-113页
参考文献第113-123页
致谢第123-125页
作者简介第125-127页

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