摘要 | 第1-7页 |
ABSTRACT | 第7-10页 |
第一章 半导体产业及测试简介 | 第10-23页 |
·半导体产业发展 | 第10-12页 |
·集成电路产业的发展 | 第10-11页 |
·分立器件产业的发展 | 第11-12页 |
·半导体制造工艺流程简介 | 第12-18页 |
·设计 | 第12-13页 |
·芯片制造 | 第13-16页 |
·封装 | 第16-17页 |
·测试 | 第17页 |
·失效产品分析、可靠性分析 | 第17-18页 |
·我国半导体产业各环节的比重 | 第18-19页 |
·测试在半导体产业中的意义 | 第19页 |
·测试中的经济意义 | 第19-21页 |
·测试成本的定义 | 第20页 |
·测试成本及利润分析 | 第20-21页 |
·十倍法则 | 第21页 |
·测试缺陷等级 | 第21页 |
·测试中所存在的问题 | 第21-22页 |
·本文主要内容 | 第22页 |
本章小结 | 第22-23页 |
第二章 电荷泵、MOSFET测试原理及设备 | 第23-50页 |
·charge-pump工作原理 | 第23-32页 |
·相关charge-pump产品分析 | 第25-32页 |
·MOSFET工作原理 | 第32-37页 |
·MOSFET相关产品分析 | 第34-37页 |
·charge-pump参数测试原理 | 第37-38页 |
·MOSFET参数测试原理 | 第38-43页 |
·MOSFET基本电参数 | 第38-39页 |
·MOSFET雪崩击穿测试 | 第39-41页 |
·MOSFET热阻测试 | 第41-42页 |
·MOSFET gate charge测试 | 第42-43页 |
·相关测试设备介绍 | 第43-45页 |
·分选机简介 | 第43-45页 |
·测试机简介 | 第45页 |
·特种测试机简介 | 第45页 |
·失效分析方法介绍 | 第45-46页 |
·失效分析设备介绍 | 第46-49页 |
本章小结 | 第49-50页 |
第三章 成测失效控制措施研究 | 第50-65页 |
·调整失效控制线的研究 | 第50-61页 |
·针对charge-pump产品调整失效控制线 | 第52-57页 |
·针对MOSFET产品调整失效控制线 | 第57-61页 |
·人为因素可能造成的失效控制 | 第61-62页 |
·伪失效控制的研究 | 第62-64页 |
·charge-pump测试常规伪失效控制及改良 | 第62-63页 |
·MOSFET测试中常规伪失效控制及改良 | 第63-64页 |
本章小结 | 第64-65页 |
第四章 测试设备不足及改良的研究 | 第65-74页 |
·不同种类测试机之间存在的差异性 | 第65-68页 |
·测试机的SPC测试机制 | 第68-70页 |
·分选机可能造成的逻辑混乱及防呆措施 | 第70-73页 |
本章小结 | 第73-74页 |
第五章 产品失效分析及工艺研究 | 第74-81页 |
·反馈至FAB制造中的缺陷 | 第74-75页 |
·反馈至封装工艺中的缺陷 | 第75-79页 |
·反馈至设计中的缺陷 | 第79-80页 |
本章小结 | 第80-81页 |
第六章 采集数据及控制应用软件 | 第81-86页 |
·Excel vba介绍及相关应用 | 第81-84页 |
·labview介绍及相关应用 | 第84-85页 |
本章小结 | 第85-86页 |
第七章 总结及未来的展望 | 第86-88页 |
·本文总结 | 第86-87页 |
·目前测试尚存在待解决的问题 | 第87页 |
·未来展望 | 第87-88页 |
附录 | 第88-93页 |
Excel收集correlation数据vba代码 | 第88-93页 |
参考文献 | 第93-95页 |
后记 | 第95-96页 |