| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6页 |
| 0 引言 | 第8-10页 |
| 1 原理 | 第10-25页 |
| 1.1 抓取原理 | 第10页 |
| 1.2 四极质谱仪工作原理 | 第10-22页 |
| 1.2.1 工作原理 | 第11-19页 |
| 1.2.2 分析原理 | 第19-22页 |
| 1.3 CVD clean 工艺的研究 | 第22-25页 |
| 1.3.1 CVD 中的刻蚀原理 | 第22页 |
| 1.3.2 试验对象的刻蚀应用分析 | 第22-25页 |
| 2 系统的搭建 | 第25-29页 |
| 2.1 基四极质谱选用 | 第25-26页 |
| 2.2 装置介绍 | 第26-27页 |
| 2.3 进样系统 | 第27-28页 |
| 2.4 旁抽系统 | 第28-29页 |
| 3 实验步骤、数据及分析 | 第29-46页 |
| 3.1 实验过程 | 第29-36页 |
| 3.1.1 质谱仪的仪器校准 | 第29-33页 |
| 3.1.2 装上装置，做气体纯度分析 | 第33-35页 |
| 3.1.3 使用原来的clean recipe,采集基础数据 | 第35页 |
| 3.1.4 脱离OES 自行抓取终点 | 第35-36页 |
| 3.2 数据及分析 | 第36-46页 |
| 4 结论 | 第46-49页 |
| 参考文献 | 第49-50页 |
| 致谢 | 第50-51页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第51-53页 |