摘要 | 第12-14页 |
Abstract | 第14-15页 |
第一章 绪论 | 第16-35页 |
1.1 课题的来源及意义 | 第16-22页 |
1.1.1 课题的来源 | 第16页 |
1.1.2 课题研究的背景和意义 | 第16-22页 |
1.2 国内外研究现状 | 第22-32页 |
1.2.1 KDP晶体超精密加工方法综述 | 第22-29页 |
1.2.2 离子束抛光技术 | 第29-32页 |
1.3 论文主要研究内容 | 第32-35页 |
第二章 KDIBF650-5V离子束抛光系统设计 | 第35-50页 |
2.1 KDIBF650-5V加工系统设计 | 第35-41页 |
2.1.1 系统的组成 | 第35-36页 |
2.1.2 多轴运动系统 | 第36-37页 |
2.1.3 双室真空系统设计 | 第37-41页 |
2.2 系统加工性能测试 | 第41-48页 |
2.2.1 去除函数实验测试 | 第42-46页 |
2.2.2 样件加工测试 | 第46-48页 |
2.3 本章小结 | 第48-50页 |
第三章 离子束加工热场研究 | 第50-88页 |
3.1 离子束能量沉积模型 | 第50-58页 |
3.1.1 离子束沉积能量建模 | 第50-54页 |
3.1.2 离子束热量沉积模拟与仿真 | 第54-58页 |
3.2 离子束作用下物体温度场建模 | 第58-68页 |
3.2.1 KDP晶体材料热传导描述 | 第58-61页 |
3.2.3 静止离子束作用下的温度场模型 | 第61-63页 |
3.2.4 均匀扫描离子束作用下的温度场建模 | 第63-67页 |
3.2.5 离子束修形过程中的温度场建模 | 第67-68页 |
3.3 离子束作用下物体温度场仿真与实验研究 | 第68-81页 |
3.3.1 实验仪器检验与校准 | 第69-70页 |
3.3.2 温度场仿真与实验方法 | 第70-72页 |
3.3.3 温度场仿真与实验结果分析 | 第72-81页 |
3.4 离子束作用下光学元件应力场模拟与仿真 | 第81-86页 |
3.4.1 应力场模拟与仿真方法 | 第81页 |
3.4.2 应力场有限元仿真结果分析 | 第81-86页 |
3.5 本章小结 | 第86-88页 |
第四章 基于热效应控制的离子束加工工艺优化 | 第88-103页 |
4.1 离子束加工工艺参数优化 | 第88-93页 |
4.1.1 研究方法 | 第88-89页 |
4.1.2 研究结果与分析 | 第89-93页 |
4.2 扫描路径优化 | 第93-98页 |
4.2.1 大间隔跨行移动路径 | 第94页 |
4.2.2 不同路径热场仿真与分析 | 第94-98页 |
4.3 滤波加工工艺 | 第98-102页 |
4.3.1 截止频率的选择 | 第98-99页 |
4.3.2 热场仿真与分析 | 第99-101页 |
4.3.3 修形精度试验验证 | 第101-102页 |
4.4 本章小结 | 第102-103页 |
第五章 KDP晶体离子束抛光表面质量研究 | 第103-119页 |
5.1 离子束抛光对KDP晶体表面化学成分的影响研究 | 第103-105页 |
5.1.1 实验条件 | 第103-104页 |
5.1.2 测量技术 | 第104页 |
5.1.3 测量结果与分析 | 第104-105页 |
5.2 离子束抛光参数和材料特性对表面质量的影响研究 | 第105-114页 |
5.2.1 工艺参数对KDP晶体离子束抛光表面粗糙度的影响 | 第105-109页 |
5.2.2 材料各向异性对离子束抛光表面粗糙度的影响 | 第109-113页 |
5.2.3 不同晶面对离子束抛光表面粗糙度的影响 | 第113-114页 |
5.3 KDP晶体表面残留铁粉的清洗 | 第114-117页 |
5.3.1 研究方法 | 第114-115页 |
5.3.2 测量技术 | 第115页 |
5.3.3 试验结果与分析 | 第115-117页 |
5.4 本章小结 | 第117-119页 |
第六章 KDP晶体离子束修形工艺研究及加工实例 | 第119-129页 |
6.1 KDP晶体离子束修形工艺路线 | 第119-120页 |
6.2 KDP晶体离子束抛光去除率 | 第120-122页 |
6.3 KDP晶体离子束修形试验研究 | 第122-124页 |
6.4 KDP晶体激光诱导损伤阈值实验研究 | 第124-128页 |
6.4.1 研究方法 | 第124-125页 |
6.4.2 测量技术 | 第125-126页 |
6.4.3 试验结果与分析 | 第126-128页 |
6.5 本章小结 | 第128-129页 |
第七章 总结与展望 | 第129-131页 |
7.1 全文总结 | 第129-130页 |
7.2 研究展望 | 第130-131页 |
致谢 | 第131-133页 |
参考文献 | 第133-141页 |
作者在学期间取得的学术成果 | 第141-142页 |
1 发表的论文 | 第141页 |
2 申请的专利 | 第141-142页 |