| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 注释表 | 第10-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-15页 |
| 1.1 课题背景 | 第11-12页 |
| 1.2 国内外研究现状及进展 | 第12-13页 |
| 1.3 课题来源及研究目的和内容 | 第13-15页 |
| 1.3.1 课题来源 | 第13页 |
| 1.3.2 课题研究的目的 | 第13-14页 |
| 1.3.3 课题研究的内容 | 第14-15页 |
| 第二章 磁控溅射薄膜压力传感器的工作机理及设计目标 | 第15-22页 |
| 2.1 磁控溅射薄膜压力传感器的工作机理 | 第15-20页 |
| 2.1.1 磁控溅射薄膜压力传感器的组成 | 第15页 |
| 2.1.2 敏感元件的结构 | 第15-16页 |
| 2.1.3 圆形平膜片应变分析 | 第16-18页 |
| 2.1.4 应变电阻转换原理 | 第18-19页 |
| 2.1.5 磁控溅射薄膜压力传感器的工作原理 | 第19-20页 |
| 2.2 磁控溅射薄膜压力传感器的设计目标 | 第20-21页 |
| 2.3 本章小结 | 第21-22页 |
| 第三章 磁控溅射薄膜压力传感器敏感元件的制作 | 第22-49页 |
| 3.1 弹性膜片设计 | 第22-24页 |
| 3.1.1 膜厚参数设计 | 第22-23页 |
| 3.1.2 基于Abaqus软件的弹性膜片厚度验证 | 第23-24页 |
| 3.2 传感器电阻膜图形及版图设计 | 第24-30页 |
| 3.2.1 电阻膜图形的设计 | 第24-28页 |
| 3.2.2 传感器版图设计及制作 | 第28-30页 |
| 3.3 掩膜法溅射试验研究 | 第30-36页 |
| 3.3.1 溅射镀膜的原理及方式 | 第30-32页 |
| 3.3.2 磁控溅射镀膜原理和影响因素及特点 | 第32-33页 |
| 3.3.3 掩膜法溅射试验 | 第33-36页 |
| 3.4 光刻法制备电阻层膜 | 第36-40页 |
| 3.4.1 光刻工艺流程 | 第36-37页 |
| 3.4.2 光刻法制备电阻层膜试验 | 第37-39页 |
| 3.4.3 腐蚀液浓度对电阻栅宽的影响 | 第39-40页 |
| 3.5 基于微细电解的电阻栅丝阻值调整 | 第40-47页 |
| 3.5.1 调阻的原理 | 第41-42页 |
| 3.5.2 阻值调整的方法 | 第42-43页 |
| 3.5.3 调阻方法的选择 | 第43-44页 |
| 3.5.4 微细电解法调阻试验 | 第44-47页 |
| 3.6 本章小结 | 第47-49页 |
| 第四章 磁控溅射薄膜压力传感器的电路设计及机械结构设计 | 第49-56页 |
| 4.1 电路补偿 | 第49-51页 |
| 4.1.1 初始不平衡补偿（零点补偿） | 第49-50页 |
| 4.1.2 零点温度补偿 | 第50-51页 |
| 4.1.3 灵敏度补偿 | 第51页 |
| 4.2 信号调理电路 | 第51-54页 |
| 4.2.1 INA125UA芯片结构与功能 | 第52-53页 |
| 4.2.2 信号调理电路的设计 | 第53-54页 |
| 4.3 机械结构设计 | 第54-55页 |
| 4.4 本章小结 | 第55-56页 |
| 第五章 磁控溅射薄膜压力传感器的测试 | 第56-61页 |
| 5.1 测试平台搭建 | 第56-58页 |
| 5.2 测试结果分析 | 第58-60页 |
| 5.3 本章小结 | 第60-61页 |
| 第六章 总结与展望 | 第61-63页 |
| 6.1 论文完成的主要工作 | 第61-62页 |
| 6.2 后续工作展望 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第67页 |
