| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-26页 |
| 1.1 衍射光学及衍射光学元件 | 第10-11页 |
| 1.2 衍射型激光阵列发生器 | 第11-22页 |
| 1.3 本文的研究目的和主要内容 | 第22-26页 |
| 第2章 浮雕结构的严格耦合波分析 | 第26-46页 |
| 2.1 严格耦合波分析法 | 第26-27页 |
| 2.2 一维浮雕结构的严格耦合波分析 | 第27-36页 |
| 2.3 二维浮雕结构的严格耦合波分析 | 第36-41页 |
| 2.4 二元相位型激光阵列发生器的设计 | 第41-45页 |
| 2.5 本章小结 | 第45-46页 |
| 第3章 多阶相位浮雕结构的双行错位激光阵列发生器的设计 | 第46-61页 |
| 3.1 多阶相位型激光阵列发生器的工作原理 | 第46页 |
| 3.2 多阶相位浮雕结构的严格耦合波分析及改进 | 第46-50页 |
| 3.3 设计参数对衍射效率的影响分析 | 第50-53页 |
| 3.4 双行错位激光阵列发生器的设计与仿真 | 第53-60页 |
| 3.5 本章小结 | 第60-61页 |
| 第4章 抗蚀剂层多阶相位浮雕结构制备研究 | 第61-85页 |
| 4.1 电子束光刻的基本理论 | 第61-64页 |
| 4.2 电子束光刻系统 | 第64-68页 |
| 4.3 电子束抗蚀剂 | 第68-69页 |
| 4.4 电子束光刻制作抗蚀掩模 | 第69-84页 |
| 4.5 本章小结 | 第84-85页 |
| 第5章 图形转移工艺研究 | 第85-99页 |
| 5.1 石英材料的反应离子刻蚀机理 | 第85-86页 |
| 5.2 实验设计 | 第86-87页 |
| 5.3 刻蚀工艺参数的影响与优化 | 第87-97页 |
| 5.4 本章小结 | 第97-99页 |
| 第6章 9/8 双行错位激光阵列发生器性能测试实验 | 第99-111页 |
| 6.1 激光阵列发生器扩束系统 | 第99-103页 |
| 6.2 激光光斑质量检测 | 第103-107页 |
| 6.3 双行错位点阵光斑位置检测 | 第107-110页 |
| 6.4 本章小结 | 第110-111页 |
| 第7章 总结与展望 | 第111-114页 |
| 7.1 主要研究工作总结 | 第111-112页 |
| 7.2 具有创新性的工作 | 第112页 |
| 7.3 展望 | 第112-114页 |
| 致谢 | 第114-115页 |
| 参考文献 | 第115-123页 |
| 在攻读博士学位期间发表的学术论文和参与科研工作 | 第123-124页 |