| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 1 绪论 | 第10-15页 |
| ·研究目的及意义 | 第10页 |
| ·AlMgB_(14)晶体结构 | 第10-11页 |
| ·AlMgB_(14)基本性质 | 第11-13页 |
| ·力学性能 | 第11-12页 |
| ·膨胀系数 | 第12-13页 |
| ·电学性能 | 第13页 |
| ·其他性质 | 第13页 |
| ·本文的选题和主要研究内容 | 第13-15页 |
| 2 Al-Mg-B薄膜的主要的制备方法和表征方法 | 第15-22页 |
| ·Al-Mg-B薄膜的主要制备方法 | 第15-17页 |
| ·脉冲激光沉积法(PLD) | 第15-16页 |
| ·磁控溅射法 | 第16-17页 |
| ·Al-Mg-B薄膜的主要表征方法 | 第17-22页 |
| ·电子探针显微分析(EPMA) | 第17-18页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第18-19页 |
| ·傅立叶变换红外光谱(FTIR) | 第19-20页 |
| ·纳米压痕技术 | 第20-22页 |
| 3 磁控溅射系统制备Al-Mg-B薄膜的设备与工艺 | 第22-27页 |
| ·JEPG450型高真空射频磁控溅射系统简介 | 第22-24页 |
| ·Al-Mg-B薄膜的制备工艺 | 第24-27页 |
| ·基片的选择与处理 | 第24页 |
| ·靶材的选择和溅射靶材的制作 | 第24-26页 |
| ·Al-Mg-B薄膜的具体沉积参数 | 第26-27页 |
| 4 改变基片温度和硼溅射功率,Al-Mg-B薄膜的制备与表征 | 第27-37页 |
| ·Al-Mg-B薄膜制备方法 | 第27-28页 |
| ·电子探针(EPMA)结果分析 | 第28-29页 |
| ·X射线衍射(XRD)结果分析 | 第29-30页 |
| ·傅里叶红外光谱(FTIR)结果分析 | 第30-31页 |
| ·原子力显微(AFM)结果分析 | 第31-33页 |
| ·纳米压痕结果分析 | 第33-35页 |
| ·摩擦磨损试验结果分析 | 第35-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 5 不同靶材对Al-Mg-B非晶薄膜的影响 | 第37-41页 |
| ·Al-Mg-B薄膜制备方法 | 第37页 |
| ·电子探针(EPMA)结果分析 | 第37-38页 |
| ·原子力显微(AFM)结果分析 | 第38-39页 |
| ·纳米压痕结果分析 | 第39页 |
| ·摩擦磨损试验结果分析 | 第39-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 6 偏压对Al-Mg-B非晶薄膜的影响 | 第41-44页 |
| ·Al-Mg-B薄膜制备方法及其表征 | 第41页 |
| ·电子探针(EPMA)结果分析 | 第41-42页 |
| ·傅里叶红外光谱(FTIR)结果分析 | 第42-43页 |
| ·纳米压痕结果分析 | 第43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 7 掺杂对Al-Mg-B非晶薄膜的影响 | 第44-49页 |
| ·掺杂Al-Mg-B薄膜制备方法及其表征 | 第44-45页 |
| ·电子探针(EPMA)结果分析 | 第45-46页 |
| ·傅里叶红外光谱(FTIR)结果分析 | 第46-47页 |
| ·纳米压痕结果分析 | 第47-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 结论 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-55页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |