热丝化学气相沉积(HWCVD)纳米晶硅薄膜的研究
摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-8页 |
1 绪论 | 第8-14页 |
·太阳能电池原理及分类 | 第8-11页 |
·太阳能电池原理 | 第8-9页 |
·第一代与第二代太阳能电池 | 第9-11页 |
·纳米晶硅薄膜特性及制备方法 | 第11-13页 |
·纳米晶硅薄膜特性 | 第11-12页 |
·纳米晶硅薄膜制备方法 | 第12-13页 |
·本文研究内容及意义 | 第13页 |
本章小结 | 第13-14页 |
2 HWCVD法沉积纳米晶硅薄膜的原理 | 第14-22页 |
·HWCVD方法简介 | 第14页 |
·HWCVD工作原理 | 第14-20页 |
·硅烷的分解反应 | 第14-18页 |
·硼烷的分解反应 | 第18-20页 |
·HWCVD设备 | 第20-21页 |
本章小结 | 第21-22页 |
3 表征方法及设备 | 第22-27页 |
·透射光谱 | 第22-24页 |
·霍尔效应测量 | 第24-25页 |
·拉曼光谱 | 第25-26页 |
本章小结 | 第26-27页 |
4 HWCVD沉积纳米晶硅薄膜掺杂特性的研究 | 第27-39页 |
·实验步骤 | 第27-28页 |
·结果与分析 | 第28-38页 |
·掺杂比对薄膜的影响 | 第28-32页 |
·衬底温度对薄膜的影响 | 第32-35页 |
·沉积气压对薄膜的影响 | 第35-38页 |
本章小结 | 第38-39页 |
5 HWCVD中热丝直径对薄膜性质的影响 | 第39-46页 |
·实验步骤 | 第39页 |
·结果与分析 | 第39-45页 |
·沉积速率 | 第39-41页 |
·薄膜结构 | 第41-43页 |
·暗电导率 | 第43-45页 |
本章小结 | 第45-46页 |
结论 | 第46-47页 |
参考文献 | 第47-51页 |
攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第51-52页 |
致谢 | 第52-53页 |