| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 符号表 | 第8-15页 |
| 第1章 绪论 | 第15-37页 |
| 1.1 课题来源 | 第15页 |
| 1.2 课题背景及研究的目的和意义 | 第15-16页 |
| 1.3 附面层流动分离控制 | 第16-25页 |
| 1.3.1 附面层流动分离问题 | 第16-19页 |
| 1.3.2 流动控制技术的应用 | 第19-25页 |
| 1.4 DBD等离子体流动控制技术及其研究进展 | 第25-36页 |
| 1.4.1 等离子体概述 | 第25页 |
| 1.4.2 等离子体流动控制技术发展历程 | 第25-26页 |
| 1.4.3 等离子体激励器气动激励及其机理 | 第26-29页 |
| 1.4.4 DBD等离子体流动控制研究 | 第29-32页 |
| 1.4.5 DBD等离子体数值仿真模型 | 第32-34页 |
| 1.4.6 等离子体激励器改善气膜冷却流场 | 第34-36页 |
| 1.5 论文工作的目的和主要内容 | 第36-37页 |
| 第2章 等离子体影响平板近壁区流场的PIV实验研究 | 第37-52页 |
| 2.1 前言 | 第37页 |
| 2.2 实验装置及测量方案 | 第37-44页 |
| 2.2.1 实验风洞 | 第37-38页 |
| 2.2.2 PIV测试系统 | 第38-42页 |
| 2.2.3 激励器电源、实验平板以及测量方案 | 第42-44页 |
| 2.3 实验结果及分析 | 第44-51页 |
| 2.3.1 近壁区速度分布 | 第44-48页 |
| 2.3.2 等离子体激励器附近区域流场分布 | 第48-50页 |
| 2.3.3 等离子体激励器附近区域流场涡量分析 | 第50-51页 |
| 2.4 本章小结 | 第51-52页 |
| 第3章 DBD等离子体与流动耦合模型的建立及求解 | 第52-69页 |
| 3.1 前言 | 第52-53页 |
| 3.2 N-S方程组的求解 | 第53-60页 |
| 3.2.1 亚格子模型 | 第53-56页 |
| 3.2.2 亚格子模型验证 | 第56-60页 |
| 3.3 等离子体激励器与流动耦合模型的建立 | 第60-68页 |
| 3.3.1 等离子体激励器简化模型 | 第60-62页 |
| 3.3.2 用户自定义函数 | 第62-63页 |
| 3.3.3 简化模型校正 | 第63-68页 |
| 3.4 本章小结 | 第68-69页 |
| 第4章 非定常等离子体激励下的流场结构分布研究 | 第69-92页 |
| 4.1 前言 | 第69页 |
| 4.2 物理模型及计算初边界条件 | 第69-71页 |
| 4.2.1 几何模型 | 第69-70页 |
| 4.2.2 等离子体激励器激励参数 | 第70-71页 |
| 4.3 DBD等离子体非定常诱导特性 | 第71-82页 |
| 4.3.1 激励强度 | 第73-77页 |
| 4.3.2 激励频率 | 第77-80页 |
| 4.3.3 来流速度 | 第80-82页 |
| 4.4 凸包分离的流动控制及流动影响机理探讨 | 第82-90页 |
| 4.4.1 流动分离流场分布 | 第83-85页 |
| 4.4.2 流动参数分布 | 第85-87页 |
| 4.4.3 等离子体激励器对附面层分离的影响机理探讨 | 第87-90页 |
| 4.5 本章小结 | 第90-92页 |
| 第5章 等离子体诱导流向涡的结构特性及其应用研究 | 第92-126页 |
| 5.1 前言 | 第92页 |
| 5.2 DBD等离子体激励器诱导流向涡 | 第92-114页 |
| 5.2.1 DBD涡流发生器仿真模型 | 第92-94页 |
| 5.2.2 诱导涡流场结构与流场特性 | 第94-106页 |
| 5.2.3 不同激励条件下流场结构对比 | 第106-114页 |
| 5.3 等离子体激励器诱导流向涡对气膜冷却的影响 | 第114-125页 |
| 5.3.1 气膜冷却流场计算模型 | 第114-117页 |
| 5.3.2 气膜冷却流场分布特性 | 第117-119页 |
| 5.3.3 DBD等离子体激励器对小孔气膜冷却影响探讨 | 第119-125页 |
| 5.4 本章小结 | 第125-126页 |
| 结论 | 第126-129页 |
| 参考文献 | 第129-139页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文及其它成果 | 第139-142页 |
| 致谢 | 第142-143页 |
| 个人简历 | 第143页 |
