| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 文献综述 | 第12-32页 |
| 1.1 引言 | 第12页 |
| 1.2 光电化学分解水 | 第12-18页 |
| 1.2.1 光电化学分解水原理 | 第12-13页 |
| 1.2.2 光电化学分解水装置 | 第13-14页 |
| 1.2.3 光电化学分解水常用材料 | 第14-17页 |
| 1.2.4 光电化学分解水材料的主要性能参数 | 第17-18页 |
| 1.3 Cu_2O的性质及应用 | 第18-27页 |
| 1.3.1 Cu_2O的基本物理性质 | 第18-19页 |
| 1.3.2 Cu_2O薄膜的应用 | 第19-27页 |
| 1.4 Cu_2O薄膜的制备方法 | 第27-30页 |
| 1.4.1 电化学沉积法 | 第27-29页 |
| 1.4.2 热分解法 | 第29页 |
| 1.4.3 磁控溅射法 | 第29-30页 |
| 1.4.4 热氧化法 | 第30页 |
| 1.5 本文的选题依据与研究内容 | 第30-32页 |
| 第二章 实验设备、样品制备及表征手段 | 第32-36页 |
| 2.1 引言 | 第32页 |
| 2.2 实验部分 | 第32-34页 |
| 2.2.1 实验试剂 | 第32页 |
| 2.2.2 电化学沉积设备 | 第32-33页 |
| 2.2.3 热分解设备 | 第33页 |
| 2.2.4 磁控溅射沉积设备 | 第33-34页 |
| 2.3 样品表征 | 第34-36页 |
| 2.3.1 X射线衍射(XRD) | 第34页 |
| 2.3.2 扫描电镜(SEM) | 第34页 |
| 2.3.3 紫外-可见光透射光谱(UV-vis) | 第34页 |
| 2.3.4 X射线光电子能谱(XPS) | 第34-35页 |
| 2.3.5 Mott-Schottky测试(MS) | 第35页 |
| 2.3.6 光电化学测试(PEC) | 第35页 |
| 2.3.7 电化学阻抗谱(EIS) | 第35-36页 |
| 第三章 电化学沉积p型Cu_2O薄膜 | 第36-54页 |
| 3.1 引言 | 第36页 |
| 3.2 电沉积p型Cu_2O薄膜的形貌和结构 | 第36-41页 |
| 3.2.1 p型Cu_2O薄膜的制备 | 第36-37页 |
| 3.2.2 生长参数对Cu_2O薄膜形貌和结构的影响 | 第37-40页 |
| 3.2.3 电沉积p型Cu_2O薄膜的形貌和结构小结 | 第40-41页 |
| 3.3 电沉积Cu_2O的能带结构控制 | 第41-51页 |
| 3.3.1 电沉积pH值对Cu_2O能带结构的影响 | 第41-46页 |
| 3.3.2 沉积电位对Cu_2O能带结构的影响 | 第46-50页 |
| 3.3.3 电沉积Cu_2O能带结构控制小结 | 第50-51页 |
| 3.4 p型Cu_2O薄膜的光电化学性能 | 第51-53页 |
| 3.4.1 沉积电位和pH值的影响 | 第51-53页 |
| 3.4.2 生长时间的影响 | 第53页 |
| 3.5 本章小结 | 第53-54页 |
| 第四章 n型Cu_2O及Cu_2O薄膜同质结的制备与光电化学性能 | 第54-64页 |
| 4.1 引言 | 第54页 |
| 4.2 电化学沉积n型Cu_2O薄膜 | 第54-58页 |
| 4.2.1 n型Cu_2O薄膜的制备 | 第54-55页 |
| 4.2.2 n型Cu_2O薄膜的表征 | 第55-58页 |
| 4.2.3 n型Cu_2O薄膜制备小结 | 第58页 |
| 4.3 电化学沉积Cu_2O薄膜同质结 | 第58-62页 |
| 4.3.1 Cu_2O薄膜同质结的制备 | 第58-59页 |
| 4.3.2 Cu_2O薄膜同质结的形貌和结构 | 第59-60页 |
| 4.3.3 Cu_2O薄膜同质结的光电化学性能 | 第60-62页 |
| 4.3.4 Cu_2O薄膜同质结小结 | 第62页 |
| 4.4 本章小结 | 第62-64页 |
| 第五章 Pt修饰n-Cu_2O/p-Cu_2O纳米复合结构的制备与光电化学性能 | 第64-88页 |
| 5.1 引言 | 第64页 |
| 5.2 Cu_2O纳米结构制备及其光电化学性能 | 第64-76页 |
| 5.2.1 退火条件对Cu_2O纳米薄膜光电化学性能的影响 | 第64-71页 |
| 5.2.2 Cu(OH)_2前驱体对Cu_2O纳米薄膜光电化学性能的影响 | 第71-76页 |
| 5.3 n-Cu_2O/p-Cu_2O纳米复合结构的制备及其光电化学性能 | 第76-81页 |
| 5.3.1 n-Cu_2O/p-Cu_2O纳米复合结构的制备 | 第76-77页 |
| 5.3.2 结果与讨论 | 第77-81页 |
| 5.3.3 n-Cu_2O/p-Cu_2O纳米复合结构小结 | 第81页 |
| 5.4 Pt修饰n-Cu_2O/p-Cu_2O纳米复合结构及其光电化学性能 | 第81-85页 |
| 5.4.1 Pt修饰n-Cu_2O/p-Cu_2O纳米复合结构的制备 | 第81-82页 |
| 5.4.2 结果与讨论 | 第82-85页 |
| 5.4.3 Pt修饰n-Cu_2O/p-Cu_2O纳米复合结构小结 | 第85页 |
| 5.5 本章小结 | 第85-88页 |
| 第六章 全文结论 | 第88-90页 |
| 参考文献 | 第90-100页 |
| 致谢 | 第100-102页 |
| 个人简历 | 第102-104页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文与取得的其它研究成果 | 第104页 |
