| 致谢 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 1 引言 | 第14-27页 |
| 1.1 微型气体流量传感器概述 | 第14-17页 |
| 1.2 热膜式气体流量传感器研究现状 | 第17-23页 |
| 1.2.1 基于热电阻温度检测的气体流量传感器研究现状 | 第17-21页 |
| 1.2.2 基于热电堆温度检测的气体流量传感器研究现状 | 第21-23页 |
| 1.3 谐振式气体流量传感器研究现状 | 第23-25页 |
| 1.4 论文的主要研究内容 | 第25-27页 |
| 2 温度检测元件及制作工艺研究 | 第27-50页 |
| 2.1 基于热电阻的温度检测技术 | 第27-38页 |
| 2.1.1 基于热电阻的温度检测原理 | 第27-31页 |
| 2.1.2 铂电阻制作工艺研究 | 第31-35页 |
| 2.1.3 多晶硅电阻制作工艺研究 | 第35-38页 |
| 2.2 基于热电堆的温度测量技术 | 第38-42页 |
| 2.2.1 热电堆温度测量原理 | 第38-39页 |
| 2.2.2 热电堆制作过程中的几个关键问题 | 第39-40页 |
| 2.2.3 热电堆制作工艺研究 | 第40-42页 |
| 2.3 谐振式温差测量技术 | 第42-49页 |
| 2.3.1 谐振式温度测量原理 | 第42-44页 |
| 2.3.2 微桥谐振梁制作工艺研究 | 第44-49页 |
| 2.4 本章小结 | 第49-50页 |
| 3 加热电阻及制作工艺研究 | 第50-58页 |
| 3.1 镍铬硅电阻温度系数影响因素 | 第50-52页 |
| 3.2 镍铬硅电阻制作工艺研究 | 第52-55页 |
| 3.2.1 薄膜电阻衬底的选择 | 第52页 |
| 3.2.2 镍铬硅薄膜的磁控溅射 | 第52-53页 |
| 3.2.3 镍铬硅薄膜的图形化 | 第53-55页 |
| 3.3 镍铬硅电阻温度系数测定 | 第55-57页 |
| 3.4 本章小结 | 第57-58页 |
| 4 流量传感器芯片制作工艺 | 第58-68页 |
| 4.1 气体流量传感器芯片制作工艺流程 | 第58-61页 |
| 4.1.1 热膜式气体流量传感器的制作 | 第58-60页 |
| 4.1.2 谐振式气体流量传感器的制作 | 第60-61页 |
| 4.2 绝缘薄膜的制备 | 第61-64页 |
| 4.2.1 二氧化硅薄膜的制备 | 第62-63页 |
| 4.2.2 氮化硅薄膜的制备 | 第63页 |
| 4.2.3 二氧化硅和LPCVD氮化硅薄膜的应力匹配 | 第63-64页 |
| 4.3 绝缘薄膜的干法刻蚀 | 第64-65页 |
| 4.4 正面铝线保护 | 第65-66页 |
| 4.5 背面腐蚀 | 第66-67页 |
| 4.6 本章小结 | 第67-68页 |
| 5 总结与展望 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-75页 |
| 作者简历 | 第75页 |
