| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-11页 |
| 1 绪论 | 第11-21页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·薄膜的结构 | 第11-14页 |
| ·DLC 薄膜的应用 | 第14-17页 |
| ·光学领域的应用 | 第15页 |
| ·机械领域的应用 | 第15-16页 |
| ·声学领域的应用 | 第16页 |
| ·电学领域的应用 | 第16-17页 |
| ·医学领域的应用 | 第17页 |
| ·减反射膜原理 | 第17-19页 |
| ·本文的立题依据、研究内容及目的 | 第19-21页 |
| 2 DLC 薄膜的制备 | 第21-34页 |
| ·DLC 薄膜的制备 | 第21-24页 |
| ·离子束沉积（IBD） | 第21页 |
| ·离子束辅助沉积（IBED） | 第21-22页 |
| ·射频溅射（RFS） | 第22页 |
| ·磁控溅射（MS） | 第22页 |
| ·真空阴极电弧沉积（VCAD） | 第22-23页 |
| ·高强度直流电弧（High Current DC -Arc） | 第23页 |
| ·直流辉光放电等离子体化学气相沉积（DC-PECVD） | 第23页 |
| ·电子回旋化学气相沉积（ECR-CVD） | 第23-24页 |
| ·射频等离子体化学气相沉积法(RF- PECVD)简介 | 第24页 |
| ·等离子体沉积CVD 反应原理 | 第24-28页 |
| ·辉光放电 | 第24-25页 |
| ·等离子体的产生 | 第25-26页 |
| ·自偏压的形成 | 第26页 |
| ·等离子体的作用 | 第26-27页 |
| ·PECVD 沉积薄膜 | 第27-28页 |
| ·等离子体化学气相沉积法制备DLC 薄膜的生长机理介绍 | 第28-29页 |
| ·薄膜的制备 | 第29-33页 |
| ·射频等离子体化学气相沉积（RF-PECVD）装置 | 第29-30页 |
| ·衬底的准备 | 第30页 |
| ·射频等离子体化学气相沉积（RF-PECVD）制备DLC 薄膜 | 第30-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 3 DLC 薄膜的性能检测及结构、厚度和形貌分析 | 第34-42页 |
| ·DLC 薄膜薄膜的性能检测 | 第34-38页 |
| ·薄膜厚度测试 | 第34页 |
| ·双光束紫外-可见分光光度计 | 第34-36页 |
| ·原子力显微（AFM）表征 | 第36页 |
| ·DLC 薄膜拉曼(Raman)光谱测试 | 第36-37页 |
| ·光致发光光谱的测试 | 第37-38页 |
| ·DLC 薄膜的结构特性分析 | 第38-39页 |
| ·DLC 薄膜的表面形貌（AFM）分析 | 第39-40页 |
| ·射频功率对DLC 薄膜厚度的影响 | 第40-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 4 DLC 薄膜的光学特性 | 第42-50页 |
| ·射频功率对DLC 薄膜反射率的影响 | 第42-43页 |
| ·DLC 薄膜的透光性 | 第43-47页 |
| ·沉积室压强对DLC 薄膜透射率的影响 | 第43-45页 |
| ·Ar 与CH4 的流量比对DLC 薄膜透射率的影响 | 第45-46页 |
| ·射频功率对DLC 薄膜透射率的影响 | 第46-47页 |
| ·DLC 薄膜的光致发光 | 第47-48页 |
| ·本章小结 | 第48-50页 |
| 5 结论 | 第50-52页 |
| 参考文献 | 第52-57页 |
| 附录 A：作者攻读硕士学位期间发表的论文情况 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58页 |
