| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 1 绪论 | 第10-16页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·W0_3的物理性质 | 第10-11页 |
| ·纳米W0_3 薄膜材料的研究进展 | 第11-14页 |
| ·W0_3薄膜气致变色性能研究进展 | 第11-13页 |
| ·W0_3薄膜电致变色性能研究进展 | 第13页 |
| ·W0_3薄膜气敏性能的研究进展 | 第13-14页 |
| ·W0_3薄膜光学气敏性能的研究进展 | 第14页 |
| ·W0_3薄膜掺杂改性研究进展 | 第14页 |
| ·本文研究的问题、研究意义和研究内容 | 第14-16页 |
| ·问题的提出 | 第14-15页 |
| ·研究意义 | 第15页 |
| ·研究的内容 | 第15-16页 |
| 2 W0_3薄膜的制备 | 第16-27页 |
| ·W0_3薄膜的制备技术及进展 | 第16-20页 |
| ·真空蒸发镀膜法 | 第16-17页 |
| ·溅射镀膜法 | 第17页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第17-18页 |
| ·水热法 | 第18页 |
| ·化学气相沉积法（CVD） | 第18-19页 |
| ·电沉积法 | 第19-20页 |
| ·反应磁控溅射法简介 | 第20-22页 |
| ·磁控溅射机理 | 第20-21页 |
| ·反应磁控溅射法的优势 | 第21-22页 |
| ·W0_3薄膜及Ti:W0_3薄膜的制备 | 第22-25页 |
| ·实验设备与仪器 | 第22-23页 |
| ·实验工艺 | 第23页 |
| ·衬底的预处理及清洗 | 第23-24页 |
| ·镀膜设备的清洁 | 第24页 |
| ·薄膜的制备过程 | 第24-25页 |
| ·薄膜的热处理 | 第25-26页 |
| ·小结 | 第26-27页 |
| 3 W0_3薄膜的表征与分析 | 第27-37页 |
| ·膜厚的测定 | 第27页 |
| ·透射率的检测 | 第27-30页 |
| ·不同Ti 掺杂对薄膜的透射率的影响 | 第28-29页 |
| ·氧分压对薄膜的透射率的影响 | 第29-30页 |
| ·热处理对Ti 掺杂W0_3薄膜的透射率的影响 | 第30页 |
| ·XRD 的测定 | 第30-36页 |
| ·掺Ti 量对薄膜的微结构的影响 | 第32-34页 |
| ·氧分压对薄膜的微结构的影响 | 第34-35页 |
| ·热处理温度对薄膜的微结构影响 | 第35-36页 |
| ·小结 | 第36-37页 |
| 4 Ti:W0_3薄膜的光学气敏性能测试与分析 | 第37-47页 |
| ·测试系统的建立 | 第37-39页 |
| ·测试系统的气路设计 | 第37-38页 |
| ·测试装置的具体结构 | 第38-39页 |
| ·样品的光学气敏测试流程 | 第39-40页 |
| ·掺Ti 量对Ti：W0_3薄膜的光学气敏特性影响 | 第40-43页 |
| ·退火温度对Ti：W0_3薄膜光学气敏特性影响 | 第43-45页 |
| ·样品对N0_2气体的恢复特性 | 第45-46页 |
| ·小结 | 第46-47页 |
| 5 结论与展望 | 第47-48页 |
| ·结论 | 第47页 |
| ·展望 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-53页 |
| 附录 A:作者攻读硕士学位期间发表的论文情况 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54页 |