| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 目录 | 第9-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-34页 |
| ·光子晶体简介 | 第12-17页 |
| ·一维光子晶体 | 第14-15页 |
| ·三维光子晶体 | 第15-16页 |
| ·二维光子晶体 | 第16-17页 |
| ·二维光子晶体波导器件 | 第17-24页 |
| ·二维光子晶体波导 | 第17-21页 |
| ·二维光子晶体滤波器及波分复用器 | 第21-24页 |
| ·光子晶体器件的制备技术 | 第24-27页 |
| ·光子晶体器件的测试方法 | 第27-31页 |
| ·渐变波导法 | 第28页 |
| ·几何光学方法 | 第28-29页 |
| ·倏逝波耦合方法 | 第29-31页 |
| ·论文研究的主要内容及文章结构安排 | 第31-34页 |
| ·论文研究的主要内容 | 第31页 |
| ·论文的结构安排 | 第31-34页 |
| 第二章 光子晶体理论基础 | 第34-46页 |
| ·二维光子晶体电磁波理论 | 第34-36页 |
| ·平面波展开法 | 第36-38页 |
| ·时域有限差分法 | 第38-43页 |
| ·光子晶体谐振腔耦合模理论 | 第43-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第三章 ：二维光子晶体侧面耦合系统的理论及设计研究 | 第46-68页 |
| ·引言 | 第46-47页 |
| ·并联耦合模理论 | 第47-52页 |
| ·光子晶体双通道侧面耦合波导 | 第52-58页 |
| ·光子晶体单通道侧面耦合波导 | 第58-66页 |
| ·光子晶体单通道侧面耦合理论 | 第58-63页 |
| ·单通道光子晶体侧面耦合波导的设计 | 第63-66页 |
| ·本章小结 | 第66-68页 |
| 第四章 光子晶体波导—纳米线波导耦合系统的设计及优化 | 第68-76页 |
| ·引言 | 第68-69页 |
| ·非对称式光子晶体谐振腔 | 第69-70页 |
| ·光子晶体波导与纳米线波导间的高效耦合系统 | 第70-75页 |
| ·光子晶体波导—纳米线波导耦合系统的设计 | 第70-73页 |
| ·光子晶体波导—纳米线波导耦合系统的结构优化 | 第73-75页 |
| ·本章小结 | 第75-76页 |
| 第五章 ：光子晶体缩束系统设计 | 第76-92页 |
| ·引言 | 第76-77页 |
| ·基于光子晶体波导间耦合的缩束器的提出及结构设计 | 第77-82页 |
| ·一级压缩部分 | 第77-80页 |
| ·二级压缩 | 第80-82页 |
| ·基于谐振腔的光子晶体缩束系统的提出及结构设计 | 第82-90页 |
| ·一级压缩部分 | 第83-86页 |
| ·二级压缩部分 | 第86-90页 |
| ·本章小结 | 第90-92页 |
| 第六章 二维光子晶体器件制备研究 | 第92-110页 |
| ·引言 | 第92-93页 |
| ·采用聚焦粒子束刻蚀工艺制备光子晶体波导 | 第93-97页 |
| ·利用电子束曝光配合干法刻蚀工艺制作光子晶体器件 | 第97-104页 |
| ·采用电子束曝光配合干法刻蚀工艺制作光子晶体波导结构 | 第97-99页 |
| ·采用电子束曝光配合干法刻蚀工艺制作光子晶体侧面耦合系统 | 第99-102页 |
| ·采用电子束曝光配合干法刻蚀工艺制作光子晶缩束器 | 第102-104页 |
| ·利用电化学腐蚀工艺制备远红外波段二维光子晶体 | 第104-108页 |
| ·倒金字塔诱导坑的制作 | 第105-107页 |
| ·电化学腐蚀 | 第107-108页 |
| ·本章小结 | 第108-110页 |
| 第七章 蛋白石结构光子晶体的光学特性研究 | 第110-118页 |
| ·引言 | 第110-111页 |
| ·蛋白石结构光子晶体光学特性的理论计算 | 第111页 |
| ·实验制备及结果讨论 | 第111-114页 |
| ·理论模型的修正 | 第114-116页 |
| ·本章小结 | 第116-118页 |
| 第八章 总结与展望 | 第118-122页 |
| ·全文总结 | 第118-119页 |
| ·创新点 | 第119页 |
| ·研究展望 | 第119-122页 |
| 参考文献 | 第122-132页 |
| 在学期间学术成果情况 | 第132-134页 |
| 指导教师及作者简介 | 第134-135页 |
| 致谢 | 第135页 |
