| 中文摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-23页 |
| 1．1 印染废水的来源及水质特征 | 第12-13页 |
| 1．2 印染废水的处理方法研究进展 | 第13-16页 |
| 1．2．1 吸附法 | 第13页 |
| 1．2．2 絮凝法 | 第13-14页 |
| 1．2．3 生化法 | 第14页 |
| 1．2．4 电解法 | 第14页 |
| 1．2．5 氧化法 | 第14-16页 |
| 1．3 半导体光催化氧化法处理有机废水的研究进展 | 第16-21页 |
| 1．3．1 催化剂的研究 | 第16-18页 |
| 1．3．2 应用范围的研究 | 第18-20页 |
| 1．3．3 光反应器的研究 | 第20-21页 |
| 1．3．4 光源的研究 | 第21页 |
| 1．4 选题目的、意义及本实验研究内容 | 第21-23页 |
| 第二章 半导体光催化降解有机物的机理初步研究 | 第23-31页 |
| 2．1 实验部分 | 第25页 |
| 2．1．1 主要实验药品及仪器 | 第25页 |
| 2．1．2 实验装置与方法 | 第25页 |
| 2．1．3 分析方法 | 第25页 |
| 2．2 结果与讨论 | 第25-29页 |
| 2．2．1 X-3B溶液的光催化降解的CODcr测定 | 第25-26页 |
| 2．2．2 X-3B溶液的紫外-可见吸收光谱图 | 第26-28页 |
| 2．2．3 X-3B溶液降解产物的离子色谱分析 | 第28页 |
| 2．2．4 X-3B降解机理推测 | 第28-29页 |
| 2．3 小结 | 第29-31页 |
| 第三章 TiO_2悬浮体系光催化降解染料动力学研究 | 第31-49页 |
| 3．1 实验部分 | 第32-34页 |
| 3．1．1 主要实验药品及仪器 | 第32-33页 |
| 3．1．2 光反应装置与方法 | 第33页 |
| 3．1．3 分析方法 | 第33-34页 |
| 3．2 结果与讨论 | 第34-47页 |
| 3．2．1 标准曲线的绘制 | 第34-35页 |
| 3．2．2 空白试验 | 第35页 |
| 3．2．3 扩散影响的排除 | 第35页 |
| 3．2．4 反应物初始浓度对光解的影响及动力学分析 | 第35-41页 |
| 3．2．5 光照强度对光解的影响 | 第41-42页 |
| 3．2．6 催化剂投加量对光解速率的影响 | 第42-43页 |
| 3．2．7 初始pH值对光解速率的影响 | 第43-44页 |
| 3．2．8 外加H_2O_2对光解速率的影响 | 第44-45页 |
| 3．2．9 共存化合物对光解速率的影响 | 第45-46页 |
| 3．2．10 光催化与光分解的比较 | 第46-47页 |
| 3．3 小结 | 第47-49页 |
| 第四章 半导体光催化处理印染废水的可行性研究 | 第49-62页 |
| 4．1 实验部分 | 第49-52页 |
| 4．1．1 实验药品与主要仪器 | 第49-50页 |
| 4．1．2 实验用废水 | 第50页 |
| 4．1．3 实验方法及实验装置 | 第50页 |
| 4．1．4 纳米二氧化钛及掺铁二氧化钛的制备 | 第50-52页 |
| 4．1．5 分析方法 | 第52页 |
| 4．2 结果与讨论 | 第52-60页 |
| 4．2．1 邻苯二甲酸氢钾标准曲线的绘制 | 第52-53页 |
| 4．2．2 催化氧化体系的正交优化 | 第53-57页 |
| 4．2．3 单因素实验优化 | 第57-59页 |
| 4．2．4 改性催化剂对光催化降解的影响 | 第59-60页 |
| 4．3 小结 | 第60-62页 |
| 第五章 半导体光催化处理印染废水的工业化探索 | 第62-69页 |
| 5．1 实验部分 | 第62-64页 |
| 5．1．1 实验药品与主要仪器 | 第62-63页 |
| 5．1．2 二氧化钛薄膜及硅胶负载型二氧化钛的制备 | 第63-64页 |
| 5．1．3 分析方法 | 第64页 |
| 5．2 结果与讨论 | 第64-68页 |
| 5．2．1 负载型二氧化钛对X-3B溶液的光催化降解 | 第64-66页 |
| 5．2．2 太阳能对X-3B废水的光催化降解 | 第66-68页 |
| 5．3 小结 | 第68-69页 |
| 结论 | 第69-71页 |
| 参考文献 | 第71-76页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文 | 第76-77页 |
| 致谢 | 第77页 |
