脉冲激光沉积法制备ZnO薄膜及其光学性质的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 致谢 | 第7-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-17页 |
| ·ZnO的基本性质、结构和应用 | 第11-16页 |
| ·国内外研究进展和本人所做工作 | 第16-17页 |
| 第二章 ZnO薄膜制备与实验 | 第17-25页 |
| ·薄膜生长过程及制备方法 | 第17-21页 |
| ·电子束蒸发 | 第18-19页 |
| ·分子束外延(MBE) | 第19-20页 |
| ·磁控溅射法 | 第20页 |
| ·溶胶—凝胶法(sol-gel) | 第20-21页 |
| ·薄膜氧化法 | 第21页 |
| ·PLD法制备ZnO薄膜 | 第21-25页 |
| ·脉冲激光沉积工艺简介 | 第21-23页 |
| ·实验设备及实验过程 | 第23-25页 |
| 第三章 ZnO薄膜的生长与表征 | 第25-48页 |
| ·薄膜的生长过程 | 第25-26页 |
| ·ZnO薄膜的XRD研究 | 第26-31页 |
| ·XRD理论原理 | 第26-28页 |
| ·样品的XRD测试分析 | 第28-31页 |
| ·样品表面形貌的表征方法 | 第31-44页 |
| ·原子力显微镜(AFM)的原理 | 第31-33页 |
| ·衬底温度对样品表面形貌的影响的AFM研究 | 第33-38页 |
| ·氧压对样品表面形貌的影响的AFM研究 | 第38-44页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)的原理 | 第44页 |
| ·ZnO薄膜的生长机理的研究 | 第44-48页 |
| 第四章 ZnO薄膜的光学性质的研究 | 第48-61页 |
| ·ZnO薄膜的光致发光特性 | 第48-55页 |
| ·ZnO的发光机制 | 第48-50页 |
| ·不同的制备条件对ZnO薄膜光致发光特性的影响 | 第50-54页 |
| ·Mg掺杂ZnO薄膜的PL谱研究 | 第54-55页 |
| ·椭偏法测量ZnO薄膜的光学常数 | 第55-61页 |
| ·椭圆偏振光谱测量的基本原理 | 第55-58页 |
| ·不同衬底温度下制备ZnO薄膜的光学常数研究 | 第58-61页 |
| 第五章 结论 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-67页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第67页 |