| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第一章 文献综述 | 第9-20页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·CH_4-CO_2重整反应催化剂的研究 | 第10-18页 |
| ·活性组分 | 第10-12页 |
| ·载体效应 | 第12-13页 |
| ·助催化剂 | 第13-16页 |
| ·碱性助剂 | 第14-15页 |
| ·稀土金属氧化物助剂 | 第15-16页 |
| ·催化剂的失活 | 第16-17页 |
| ·新型催化材料的开发与新技术的应用 | 第17-18页 |
| ·本文的研究目的和意义 | 第18-20页 |
| 第二章 实验方法与数据处理 | 第20-28页 |
| ·化学试剂原料与仪器设备 | 第20-21页 |
| ·实验药品 | 第20页 |
| ·实验气体 | 第20页 |
| ·主要实验仪器 | 第20-21页 |
| ·实验过程 | 第21-22页 |
| ·校正因子的测定 | 第21页 |
| ·溶胶-凝胶法合成纳米BaTiO_3载体的工艺过程 | 第21页 |
| ·Ni-Co双金属催化剂的制备 | 第21-22页 |
| ·Ni-Co双金属催化剂的浸渍制法 | 第22页 |
| ·Ni-Co双金属催化剂的溶胶-凝胶制法 | 第22页 |
| ·反应实验装置流程及评估方法 | 第22-25页 |
| ·催化剂活性评估流程图 | 第22-23页 |
| ·催化剂活性评估方法 | 第23-24页 |
| ·催化剂TPD和TPR表征流程图 | 第24页 |
| ·催化剂积炭评价方法 | 第24-25页 |
| ·催化剂的表征 | 第25-26页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第25页 |
| ·HCS-878(A)红外碳硫分析仪 | 第25页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第25页 |
| ·程序升温还原(TPR) | 第25-26页 |
| ·程序升温脱附(TPD) | 第26页 |
| ·数据处理方法 | 第26-28页 |
| ·催化剂的活性计算方法 | 第26-27页 |
| ·催化剂的积炭量计算 | 第27-28页 |
| 第三章 单双金属催化剂的催化性能研究 | 第28-41页 |
| ·引言 | 第28页 |
| ·活性组分Ni最佳负载量的选取 | 第28-29页 |
| ·第2活性组分Co含量的确定 | 第29-31页 |
| ·单双金属催化剂的催化性能 | 第31-38页 |
| ·单双金属催化剂的催化活性比较 | 第31-32页 |
| ·单双金属催化剂的还原性能(TPR) | 第32-33页 |
| ·单双金属催化剂的脱附性能(TPD) | 第33-34页 |
| ·单双金属催化剂的XPS分析 | 第34-37页 |
| ·单双金属催化剂的抗积炭性能 | 第37-38页 |
| ·反应温度对单双金属催化剂催化活性的影响 | 第38-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第四章 Ni-Co双金属催化剂的催化性能研究 | 第41-58页 |
| ·引言 | 第41页 |
| ·不同前驱体对Ni-Co双金属催化剂催化性能的影响 | 第41-46页 |
| ·不同前驱体制备的催化剂在CH_4-CO_2重整反应中的活性 | 第42-43页 |
| ·不同前驱体制备的催化剂的还原性能(TPR) | 第43-45页 |
| ·不同前驱体制备的催化剂的脱附性能(TPD) | 第45-46页 |
| ·浸渍顺序对Ni-Co双金属催化剂催化性能的影响 | 第46-51页 |
| ·浸渍及浸渍基本原理 | 第46页 |
| ·不同浸渍顺序制备的催化剂在CH_4-CO_2重整反应中的活性 | 第46-48页 |
| ·不同浸渍顺序制备的催化剂的还原性能(TPR) | 第48-50页 |
| ·不同浸渍顺序制备的催化剂的脱附性能(TPD) | 第50-51页 |
| ·制备方法对Ni-Co双金属催化剂催化性能的影响 | 第51-55页 |
| ·不同制备方法制备的催化剂在CH_4-CO_2重整反应中的活性 | 第51-52页 |
| ·不同制备方法制备的催化剂的TEM观察 | 第52-53页 |
| ·不同制备方法制备的催化剂的还原性能(TPR) | 第53-54页 |
| ·不同制备方法制备的催化剂的脱附性能(TPD) | 第54-55页 |
| ·反应温度对Ni-Co双金属催化剂催化活性的影响 | 第55-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 结论 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-64页 |
| 攻读学位期间论文发表情况 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
