超高密度磁记录写磁头材料FeCoN薄膜的研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-29页 |
| ·磁记录发展简述 | 第10-14页 |
| ·磁记录物理简介 | 第14-23页 |
| ·磁记录介质 | 第15-17页 |
| ·磁记录磁头 | 第17-20页 |
| ·磁记录的写过程 | 第20-23页 |
| ·写磁头材料的发展及现状 | 第23-27页 |
| ·磁记录写头材料的基本要求 | 第23-25页 |
| ·写磁头材料的发展和现状 | 第25-27页 |
| 参考文献 | 第27-29页 |
| 第二章 薄膜的制备及其性能表征 | 第29-47页 |
| ·薄膜的制备 | 第29-34页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第29-31页 |
| ·溅射原理 | 第31页 |
| ·薄膜的生长过程 | 第31-32页 |
| ·基片的选择与清洗 | 第32-33页 |
| ·靶的准备 | 第33页 |
| ·薄膜制备条件的选择与控制 | 第33-34页 |
| ·薄膜性能的表征 | 第34-45页 |
| ·薄膜膜厚的测量 | 第34-35页 |
| ·薄膜晶体结构的分析 | 第35-36页 |
| ·薄膜磁性能的测量 | 第36-39页 |
| ·高频特性测量 | 第39页 |
| ·薄膜应力测量 | 第39-40页 |
| ·薄膜表面形貌的观察 | 第40-41页 |
| ·表面畴结构观察 | 第41-42页 |
| ·透射电镜(TEM) | 第42-43页 |
| ·薄膜电阻率的测定 | 第43-45页 |
| 参考文献 | 第45-47页 |
| 第三章 FeCoN薄膜 | 第47-59页 |
| ·FeCoN薄膜的结构和磁性 | 第47-53页 |
| ·氮分压对FeCoN薄膜磁性的影响 | 第47-50页 |
| ·FeCoN薄膜的结构分析 | 第50-52页 |
| ·FeCoN薄膜的电阻率和高频特性 | 第52-53页 |
| ·FeCoN薄膜磁各向异性 | 第53-55页 |
| ·两种方式对FeCoN薄膜的影响 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-59页 |
| 第四章 结论 | 第59-60页 |
| 在学期间的研究成果 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61页 |
