| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-24页 |
| ·研究的背景和意义 | 第8-10页 |
| ·AZO薄膜的光电特性 | 第10-12页 |
| ·AZO薄膜的结构特性 | 第10-11页 |
| ·AZO薄膜的电学特性 | 第11页 |
| ·AZO薄膜的光学特性 | 第11-12页 |
| ·国内外研究现状 | 第12-15页 |
| ·AZO的制备方法 | 第15-19页 |
| ·溶胶-凝胶（sol-gel）法 | 第16-18页 |
| ·磁控溅射（Magnetron Sputtering)法 | 第18页 |
| ·激光脉冲沉积法（Pulsed Laser deposition) | 第18-19页 |
| ·金属有机物化学气相沉积（Metal organic Chemical Vapour deposition) | 第19页 |
| ·AZO薄膜的应用 | 第19-21页 |
| ·在太阳能电池方面的应用 | 第19-20页 |
| ·在热镜方面的应用 | 第20页 |
| ·在液晶显示器及其他方面的应用 | 第20-21页 |
| ·课题的研究内容与技术路线 | 第21-23页 |
| ·课题研究的主要内容 | 第21-22页 |
| ·课题研究的技术路线 | 第22-23页 |
| ·本章小结 | 第23-24页 |
| 第二章 试样的制备与表征方法 | 第24-33页 |
| ·溶胶凝胶法基本原理 | 第24-25页 |
| ·AZO薄膜样品的制备 | 第25-28页 |
| ·实验原料 | 第25页 |
| ·溶胶的制备 | 第25页 |
| ·基片的清洗 | 第25-26页 |
| ·AZO薄膜的制备 | 第26-28页 |
| ·薄膜的表征 | 第28-31页 |
| ·X射线衍射仪(X Ray Diffraction) | 第28-29页 |
| ·扫描电子显微镜分析(Scanning Electron Microscope) | 第29-30页 |
| ·霍尔效应测试仪(Hall Effect Measurement System) | 第30页 |
| ·紫外可见分光光度计(Ultraviolet and Visible Spectrophotometer) | 第30-31页 |
| ·实验的主要设备仪器 | 第31页 |
| ·本章小结 | 第31-33页 |
| 第三章 掺杂浓度对AZO薄膜性质的影响 | 第33-42页 |
| ·XRD分析 | 第33-36页 |
| ·SEM分析 | 第36-37页 |
| ·掺杂浓度对电学性能的影响 | 第37-40页 |
| ·掺杂浓度对光学性能的影响 | 第40-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第四章 退火处理对薄膜性能的影响 | 第42-55页 |
| ·退火温度对薄膜性能的影响 | 第42-49页 |
| ·退火温度对结晶性能的影响 | 第43-47页 |
| ·退火温度对电学性能的影响 | 第47-49页 |
| ·退火温度对光学性能的影响 | 第49页 |
| ·退火气氛对薄膜性能的影响 | 第49-53页 |
| ·退火气氛对结晶性能的影响 | 第50页 |
| ·退火气氛对电学性能的影响 | 第50-53页 |
| ·退火气氛对光学性能的影响 | 第53页 |
| ·本章小结 | 第53-55页 |
| 第五章 厚度对AZO薄膜性能的影响 | 第55-60页 |
| ·提拉次数对厚度的影响 | 第55-57页 |
| ·厚度对电学性能的影响 | 第57-59页 |
| ·厚度对光学性能的影响 | 第59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 结论 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-67页 |
| 致谢 | 第67页 |
