提要 | 第1-11页 |
第1章 绪论 | 第11-30页 |
·选题意义 | 第11-12页 |
·耐磨涂层的发展和研究现状 | 第12-17页 |
·耐磨涂层的产生 | 第12-13页 |
·耐磨涂层的分类 | 第13-17页 |
·耐磨涂层的分类 | 第13页 |
·硬质涂层 | 第13-16页 |
·超硬涂层 | 第16页 |
·耐磨减磨涂层 | 第16-17页 |
·耐磨涂层的制备方法 | 第17-20页 |
·喷涂 | 第17-18页 |
·真空蒸发镀 | 第18页 |
·离子镀和离子束辅助沉积 | 第18-19页 |
·化学气相沉积 | 第19页 |
·溅射 | 第19-20页 |
·磁控溅射 | 第20-24页 |
·磁控溅射基本原理 | 第20-21页 |
·磁控溅射设备 | 第21-22页 |
·表征溅射特征的主要参数 | 第22-24页 |
·磁控溅射的发展和应用 | 第24页 |
·稀土元素的发展和研究现状 | 第24-27页 |
·国内稀土行业的发展概况 | 第24-26页 |
·稀土资源在我国的分布 | 第24-25页 |
·我国稀土工业的发展概况 | 第25-26页 |
·稀土元素在表面工程的应用 | 第26页 |
·稀土元素在硬质薄膜材料中国内外研究现状 | 第26-27页 |
·大型模具材料的发展和研究现状 | 第27-29页 |
·国内外模具用钢现状 | 第27-28页 |
·国内外模具用铸铁现状 | 第28页 |
·模具材料表面强化处理现状 | 第28-29页 |
·本文的研究内容 | 第29-30页 |
第2章 实验方法 | 第30-42页 |
·实验设备 | 第30-31页 |
·实验材料 | 第31-34页 |
·CrAlTi(Y/Ce)N 薄膜的制备 | 第34-35页 |
·基体材料制备 | 第34页 |
·真空条件下预处理 | 第34-35页 |
·CrAlTi(Y/Ce)N 的制备过程 | 第35页 |
·CrAlTi(Y/Ce)N 薄膜的表征方法 | 第35-37页 |
·扫描电镜(SEM)和能谱(EDS)分析 | 第35-36页 |
·原子力显微镜(AFM)分析 | 第36页 |
·X 射线衍射(XRD)分析 | 第36页 |
·X 射线光电子能谱(XPS)分析 | 第36页 |
·奥林巴斯光学显微镜分析 | 第36页 |
·激光共焦显微镜分析 | 第36-37页 |
·CrAlTi(Y/Ce)N 薄膜的性能测试方法 | 第37-42页 |
·CrAlTi(Y/Ce)N 薄膜的膜厚测试 | 第37页 |
·CrAlTi(Y/Ce)N 薄膜的硬度测试 | 第37页 |
·CrAlTi(Y/Ce)N 薄膜的结合强度分析 | 第37-38页 |
·CrAlTi(Y/Ce)N 薄膜的摩擦系数测试 | 第38-40页 |
·CrAlTi(Y/Ce)N 薄膜的耐磨性测试 | 第40-42页 |
第3章 稀土Y 和稀土Ce 对溅射的影响 | 第42-51页 |
·引言 | 第42页 |
·表面束缚能U_0 与熔点T_m关系的研究 | 第42-46页 |
·稀土Y 含量对溅射产额的影响 | 第46-48页 |
·离子能量对含有稀土材料的溅射产额的影响 | 第48-49页 |
·本章小结 | 第49-51页 |
第4章 CrAlTi(Y)N 薄膜的制备和性能研究 | 第51-76页 |
·引言 | 第51页 |
·CrAlTi(Y)N 薄膜生长速度的研究 | 第51-57页 |
·Al-Y合金靶材中不同稀土Y含量对CrAlTi(Y)N薄膜生长速度的影响 | 第51-53页 |
·不同氮气流量对CrAlTi(Y)N 薄膜生长速度的影响 | 第53-56页 |
·不同负偏压对CrAlTi(Y)N 薄膜生长速度的影响 | 第56-57页 |
·CrAlTi(Y)N 薄膜成分、相组成的研究 | 第57-62页 |
·Al-Y 合金靶材中稀土Y 含量对CrAlTi(Y)N 薄膜成分、相组成的影响 | 第57-59页 |
·氮气流量对CrAlTi(Y)N 薄膜成分、相组成的影响 | 第59-61页 |
·负偏压对CrAlTi(Y)N 薄膜成分、相组成的影响 | 第61-62页 |
·CrAlTi(Y)N 薄膜表面形貌分析研究 | 第62-69页 |
·Al-Y合金靶材中不同稀土Y含量对CrAlTi(Y)N薄膜表面形貌的影响 | 第62-64页 |
·不同氮气流量对CrAlTi(Y)N 薄膜表面形貌的影响 | 第64-66页 |
·不同偏压值对CrAlTi(Y)N 薄膜表面形貌的影响 | 第66-69页 |
·CrAlTi(Y)N 薄膜硬度的研究 | 第69-72页 |
·Al-Y合金靶材中不同稀土Y含量对CrAlTi(Y)N薄膜硬度的影响 | 第69-70页 |
·不同氮气流量对CrAlTi(Y)N 薄膜硬度的影响 | 第70-71页 |
·不同偏压值对CrAlTi(Y)N 薄膜硬度的影响 | 第71-72页 |
·CrAlTi(Y)N 结合强度的研究 | 第72-75页 |
·CrAlTi(Y)N 塑性分析 | 第72-73页 |
·划痕试验分析 | 第73-75页 |
·本章小结 | 第75-76页 |
第5章 CrAlTi(Y)N 薄膜的磨损行为研究 | 第76-91页 |
·引言 | 第76页 |
·Al 靶中Y 含量对CrAlTi(Y)N 耐磨性的影响 | 第76-80页 |
·Al 靶中Y 含量对T10A 模具钢表面CrAlTi(Y)N 耐磨性的影响 | 第76-77页 |
·Al 靶中Y 含量对QT700-2 表面CrAlTi(Y)N 耐磨性的影响 | 第77-80页 |
·偏压对CrAlTi(Y)N 耐磨性的影响 | 第80-83页 |
·偏压对Cr12MoV 模具钢表面CrAlTi(Y)N 耐磨性的影响 | 第80-81页 |
·偏压对QT700-2 表面CrAlTi(Y)N 耐磨性的影响 | 第81-83页 |
·N_2 流量CrAlTi(Y)N 耐磨性的研究 | 第83-85页 |
·N_2 流量对Cr12MoV 模具钢表面CrAlTi(Y)N 耐磨性的影响 | 第83-84页 |
·N_2 流量对QT700-2 表面CrAlTi(Y)N 耐磨性的影响 | 第84-85页 |
·CrAlTi(Y)N 薄膜摩擦系数的研究 | 第85-88页 |
·偏压对CrAlTi(Y)N 薄膜摩擦系数的影响 | 第85-87页 |
·N_2 流量对CrAlTi(Y)N 摩擦系数的影响 | 第87-88页 |
·基体QT700 石墨球上CrAlTi(Y)薄膜破坏模式的研究 | 第88-89页 |
·本章小结 | 第89-91页 |
第6章 CrAlTi(Ce)N 薄膜的制备和性能研究 | 第91-107页 |
·引言 | 第91页 |
·CrAlTi(Ce)N 生长速度的研究 | 第91-95页 |
·不同氮气流量对CrAlTi(Ce)N 薄膜生长速度的研究 | 第91-93页 |
·不同偏压对CrAlTi(Ce)N 薄膜生长速度的影响 | 第93-95页 |
·CrAlTi(Ce)N 薄膜成分、相组成的研究 | 第95-98页 |
·不同氮气流量对CrAlTi(Ce)N 薄膜成分、相组成的影响 | 第95-97页 |
·不同偏压对CrAlTi(Ce)N 薄膜成分、相组成的影响 | 第97-98页 |
·CrAlTi(Ce)N 薄膜表面形貌分析研究 | 第98-103页 |
·不同氮气流量对CrAlTi(Ce)N 薄膜表面形貌的影响 | 第98-100页 |
·不同偏压对CrAlTi(Ce)N 薄膜表面形貌的影响 | 第100-103页 |
·CrAlTi(Ce)N 薄膜硬度的研究 | 第103-105页 |
·不同氮气流量对CrAlTi(Ce)N 薄膜硬度的影响 | 第103-104页 |
·不同偏压对CrAlTi(Ce)N 薄膜硬度的影响 | 第104-105页 |
·本章小结 | 第105-107页 |
第7章 CrAlTi(Ce)N 薄膜的磨损行为研究 | 第107-115页 |
·引言 | 第107页 |
·偏压对CrAlTi(Ce)N 耐磨性的影响 | 第107-111页 |
·偏压对Cr12MoV 模具钢表面CrAlTi(Ce)N 耐磨性的影响 | 第107-109页 |
·偏压对QT700-2 表面CrAlTi(Ce)N 耐磨性的影响 | 第109-111页 |
·N2 流量CrAlTi(Ce)N 耐磨性的研究 | 第111-114页 |
·N_2 流量对Cr12MoV 模具钢表面CrAlTi(Ce)N 耐磨性的影响 | 第111-112页 |
·N_2 流量对QT700-2 表面CrAlTi(Ce)N 耐磨性的影响 | 第112-114页 |
·本章小结 | 第114-115页 |
第8章 结论 | 第115-118页 |
参考文献 | 第118-131页 |
攻博期间发表的学术论文和专利 | 第131-132页 |
致谢 | 第132-133页 |
摘要 | 第133-136页 |
Abstract | 第136-139页 |