微环激光器的设计与测量
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-18页 |
| ·微环激光器的研究背景与现状 | 第7-10页 |
| ·微环激光器的发展历史 | 第10-11页 |
| ·微环激光器的种类 | 第11-14页 |
| ·微环激光器的应用前景 | 第14-18页 |
| ·全光存储 | 第14-15页 |
| ·全光逻辑 | 第15-17页 |
| ·本文研究的主要内容 | 第17-18页 |
| 第二章 微环激光器的工作原理 | 第18-37页 |
| ·半导体激光器的基本理论 | 第18-26页 |
| ·半导体激光器工作的三个基本条件 | 第18-19页 |
| ·量子阱及应变量子阱 | 第19-26页 |
| ·微环激光器的主体结构 | 第26-27页 |
| ·环形谐振腔的工作原理 | 第27-34页 |
| ·环形谐振腔的基本参量 | 第27-29页 |
| ·单环环形谐振腔的工作原理 | 第29-33页 |
| ·环形谐振腔的功能与应用 | 第33-34页 |
| ·微环激光器的光学双稳态 | 第34-37页 |
| 第三章 微环激光器的设计 | 第37-51页 |
| ·器件设计与衬底选择 | 第37-46页 |
| ·横向耦合结构 | 第37-45页 |
| ·竖直耦合结构 | 第45-46页 |
| ·本课题微环激光器设计考虑 | 第46-51页 |
| ·衬底材料等效折射率的估算 | 第46-48页 |
| ·器件参数设计与版图设计 | 第48-51页 |
| 第四章 微环激光器的制作工艺与测试 | 第51-64页 |
| ·半导体器件制备技术简介 | 第51-55页 |
| ·材料清洗 | 第51页 |
| ·光刻技术 | 第51-52页 |
| ·刻蚀 | 第52-53页 |
| ·电极制备 | 第53-55页 |
| ·后工艺 | 第55页 |
| ·本项目工艺流程 | 第55-59页 |
| ·衬底材料的选用 | 第55-57页 |
| ·本课题采用的工艺步骤 | 第57-59页 |
| ·微环激光器的性能测试 | 第59-64页 |
| ·芯片测试仪器与方法 | 第59-60页 |
| ·测试结果与分析 | 第60-62页 |
| ·分析与改进 | 第62-64页 |
| 第五章 结论 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70页 |